Investigation of thickness effects on fatigue crack propagation in freestanding single crystalline copper nano-films by in situ nanoscopic observation
通过原位纳米观察研究独立单晶铜纳米薄膜的厚度对疲劳裂纹扩展的影响
基本信息
- 批准号:26889038
- 负责人:
- 金额:$ 1.75万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
- 财政年份:2014
- 资助国家:日本
- 起止时间:2014-08-29 至 2016-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(9)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
自立単結晶銅ナノ薄膜の疲労き裂進展の膜厚依存性
自支撑单晶铜纳米薄膜中疲劳裂纹扩展的厚度依赖性
- DOI:
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:近藤俊之;吉田高徳;平方寛之;箕島弘二;加藤悠貴,佐藤隼可,松田達也,三浦均也;近藤俊之,吉田高徳,森國友章,平方寛之,箕島弘二
- 通讯作者:近藤俊之,吉田高徳,森國友章,平方寛之,箕島弘二
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Kondo Toshiyuki其他文献
自動車用前照灯の照射特性が及ぼすヘッドランプの影響
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- DOI:
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- 影响因子:0
- 作者:
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10.20965/jrm.2022.p0746 - 发表时间:
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- 影响因子:1.1
- 作者:
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Kondo Toshiyuki
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- DOI:
- 发表时间:
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- 影响因子:0
- 作者:
Matsuda Eiko;Misawa Daichi;Yano Shiro;Kondo Toshiyuki;柳 至;山田恵里・渡部大輔・河上哲 - 通讯作者:
山田恵里・渡部大輔・河上哲
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- DOI:
- 发表时间:
2023 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Aoyagi Yukihiko;Yamada Shigeki;Ueda Shigeo;Iseki Chifumi;Kondo Toshiyuki;Mori Keisuke;Kobayashi Yoshiyuki;Fukami Tadanori;Hoshimaru Minoru;Ishikawa Masatsune;Ohta Yasuyuki;仮屋孝二 - 通讯作者:
仮屋孝二
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人机协作运动学习
- DOI:
10.7210/jrsj.38.895 - 发表时间:
2020 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Kondo Toshiyuki;Hayashi Yoshikatsu - 通讯作者:
Hayashi Yoshikatsu
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$ 1.75万 - 项目类别:
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強誘電体基板上に成膜した強磁性薄膜における磁気特性の評価とその発現機構の解明
铁电基板上沉积的铁磁薄膜的磁性能评估及其表现机制的阐明
- 批准号:
24K08198 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 1.75万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)














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