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Study on sophistication of technology for thin liquid film lubrication using nanostripe patterning
纳米条纹图案化薄膜液膜润滑技术的复杂性研究
基本信息
- 批准号：25249011
- 负责人：
- 金额：$ 23.96万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
- 财政年份：2013
- 资助国家：日本
- 起止时间：2013-10-21 至 2018-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（37）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Effect of nanostripe surface geometry on lubrication properties at extremely low sliding speed
纳米带表面几何形状对极低滑动速度下润滑性能的影响
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Reina Shiojima;Yasuhisa ANDO
- 通讯作者：Yasuhisa ANDO
Mesoscale Friction Measurement of Hierarchical Patterns by Raster Scanning
通过光栅扫描测量分层图案的介观摩擦
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Reina Shiojima;Yasuhisa Ando;Koji Miyake;Miki Nakano
- 通讯作者：Miki Nakano
Determining Lubrication Properties of Nanostripe Structure by AFM Measurement
通过 AFM 测量确定纳米带结构的润滑性能
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Tomohiro Miura;Yasuhisa Ando;Takuro Sumiya
- 通讯作者：Takuro Sumiya
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- 作者：
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ANDO Yasuhisa其他文献
Determining lubrication properties of hierarchical groove patterns using mesoscale raster-scanning measurements
使用中尺度光栅扫描测量确定分层凹槽图案的润滑性能
- DOI：
10.1299/jamdsm.2022jamdsm0030 - 发表时间：
2022 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
SHIOJIMA Reina;ANDO Yasuhisa;MIYAKE Koji;NAKANO Miki - 通讯作者：
NAKANO Miki
ANDO Yasuhisa的其他文献
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Clarification of conditions for ultra-low friction
澄清超低摩擦条件
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21560160 - 财政年份：2009
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15K13731 - 财政年份：2015
- 资助金额：
$ 23.96万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
一軸圧縮下での非晶質酸化物薄膜の特異な固相成長による新機能創発
通过单轴压缩下非晶氧化物薄膜的独特固相生长出现新功能
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15J11705 - 财政年份：2015
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Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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大规模储能装置初始成核控制的电化学处理
- 批准号：
25249104 - 财政年份：2013
- 资助金额：
$ 23.96万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Development of near-field fluorescence thermal sensing technique for nano-scale patterning
用于纳米级图案化的近场荧光热传感技术的发展
- 批准号：
23686036 - 财政年份：2011
- 资助金额：
$ 23.96万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
金属ナノコロイドテンプレートを用いた有機単分子膜のシングルナノパターニング
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- 批准号：
22656166 - 财政年份：2010
- 资助金额：
$ 23.96万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
グラフェンデバイスに向けた新規基板技術の創成
为石墨烯器件创造新的衬底技术
- 批准号：
10J00059 - 财政年份：2010
- 资助金额：
$ 23.96万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows