Gas permeable mold in nanoimprint lithography
纳米压印光刻中的透气模具
基本信息
- 批准号:16K04920
- 负责人:
- 金额:$ 3.16万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2016
- 资助国家:日本
- 起止时间:2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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会议论文数量(0)
专利数量(0)
Gas-Permeable Microimprint Template Derived from Cellulose Nanofiber Derivatives for Mechanical Properties
由纤维素纳米纤维衍生物衍生的透气微压印模板的机械性能
- DOI:10.1155/2019/5180460
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Seigo Murayama;Ikuo Motono;Kento Mizui;K. Kondoh;M. Hanabata;S. Takei
- 通讯作者:S. Takei
Ultraviolet nanoimprint gas-permeable templates derived from cellulose with acrylate and methacrylate groups to reduce void defects
源自具有丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯基团的纤维素的紫外线纳米压印透气模板,可减少空隙缺陷
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Shinya Nakajima;Satoshi Takei;Soichiro Takamatsu;Kento Mizui;Toshitaka Oka;Yoko Matsumoto;Atsushi Sekiguchi;Makoto Hanabata
- 通讯作者:Makoto Hanabata
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使用透气模具通过热纳米压印光刻技术对可生物降解聚丙交酯进行高分辨率纳米图案化
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Naoto Sugino;Satoshi Takei;Shinya Nakajima;Makoto Hanabata;Takao Kameda;Atsushi Sekiguchi;Satoshi Takei and Makoto Hanabata
- 通讯作者:Satoshi Takei and Makoto Hanabata
Extreme-ultraviolet and electron beam lithography processing using water developable resist material
使用水可显影抗蚀剂材料进行极紫外和电子束光刻加工
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Satoshi Takei;Naoto Sugino;Makoto Hanabata
- 通讯作者:Makoto Hanabata
ナノインプリント技術ハンドブック
纳米压印技术手册
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:A. Miura;A. Nojima;R. Nohara;N. Kitamura.;分担執筆 赤坂 司(応用物理学会・ナノインプリント技術研究会編)
- 通讯作者:分担執筆 赤坂 司(応用物理学会・ナノインプリント技術研究会編)
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- 资助金额:
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- 批准号:
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$ 3.16万 - 项目类别:
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