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Melt layer dynamics and solidification behavior of tungsten by pulsed heat loading and evalution of surace protection layer

脉冲热载荷下钨的熔体层动力学和凝固行为以及表面保护层的评估

基本信息

批准号：
25249132
负责人：
Yoshio Ueda
金额：
$ 29.29万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份：
2013
资助国家：
日本
起止时间：
2013-05-31 至 2017-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（101）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Laser ultrasonics as a method for in-situ material monitoring diagnostic in fusion devices

激光超声波作为聚变装置中原位材料监测诊断的方法

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
H.T. Lee;H. Katsuma;K. Ibano;and Y. Ueda
通讯作者：
and Y. Ueda

磁化プラズマガンを用いたELM 様パルスプラズマ照射におけるプラズマ・蒸気混合層の発光分光計測

使用磁化等离子体枪进行类 ELM 脉冲等离子体辐照期间等离子体/蒸气混合层的发射光谱测量

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
Younes M;Wu Z;Dupouy S;Lupo AM;Mourra N;Takahashi T;Flejou JF;Tredaniel J;Regnard JF;Damotte D;Alifano M;Forgez P;中根優人，菊池祐介，伊庭野健造，上田良夫，福本直之，永田正義
通讯作者：
中根優人，菊池祐介，伊庭野健造，上田良夫，福本直之，永田正義

Be 堆積層由来蒸気によるプラズマ冷却効果の観察

铍沉积层产生的蒸气引起的等离子体冷却效果的观察

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
伊庭野健造;西島大輔;Jonathan Yu;Matthew Baldwin;Russ Doerner;Lee Heun Tae;上田良夫
通讯作者：
上田良夫

Molten layer characteristics of W materials and it’s protective coatings by pulsed laser irradiation

脉冲激光辐照钨材料及其保护层的熔层特性

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
INOUE;Daisuke; IBANO;Kenzo; YOSHIKAWA;Satoru; MAEJI;Takeru; UEDA;Yoshio
通讯作者：
Yoshio

種々の高融点金属におけるヘリウム誘起ナノ構造の形成

在各种难熔金属中形成氦诱导纳米结构

DOI：
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
0
作者：
神田圭祐;藤本賢介;上畑和樹;伊庭野健造;Heun Tae Lee;上田良夫
通讯作者：
上田良夫

DOI：
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作者：
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Yoshio Ueda其他文献

Curret Activities in the Interactive Joint Research at Tohoku University - Advanced Evaluation of Radiation Effects on Fusion Materials

东北大学互动联合研究中的当前活动 - 聚变材料辐射效应的高级评估

DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
Plasma and Fusion Research
影响因子：
0.8
作者：
Hiroaki Kurishita;Masahiro Hatakeyama;Minoru Narui;Satoru Matsuo;Tatsuo Shikama;Kohei Tada;Noriyasu Ohno;Takao Takeuchi;Yuji Hatano;Masaki Nishiura;Yousuke Nakashima;Hideo Watanabe;Kazutoshi Tokunaga;Tomoaki Hino;Yoshio Ueda;Takeo Muroga;A
通讯作者：
A

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DOI：
发表时间：
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影响因子：
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DOI：
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
0
作者：
Hiroaki Kurishita;Masahiro Hatakeyama;Minoru Narui;Satoru Matsuo;Tatsuo Shikama;Kohei Tada;Noriyasu Ohno;Takao Takeuchi;Yuji Hatano;Masaki Nishiura;Yousuke Nakashima;Hideo Watanabe;Kazutoshi Tokunaga;Tomoaki Hino;Yoshio Ueda;Takeo Muroga;A;M. Yoshikawa;小林拓朗;K. Shimizu
通讯作者：
K. Shimizu

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DOI：
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
0
作者：
Mitsutaka Miyamoto;Daisuke Nishijima;Matthew J. Baldwin;Russell P. Doerner;Yoshio Ueda;Akio Sagara;Hiroaki Kurishita;Hiroyuki USHIRO
通讯作者：
Hiroyuki USHIRO