低エネルギーフォトン励起による近赤外エンジニアリングと非侵襲デバイス応用
低エネルギーフォトン励起による近赤外エンジニアリングと非侵襲デバイス応用
使用低能光子激发的近红外工程和非侵入性设备应用
批准号：
23H01676
负责人：
高橋 儀宏
金额：
$12.06万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2023
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2023-04-01 至 2026-03-31
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光非線形透明結晶化ガラスの創製とフォトニック結晶及び短波長固体レーザーへの応用
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批准号：01J04156
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项目类别：Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额：$1.28万
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财政年份：2001
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负责人：高橋 儀宏
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依托单位：
海外基金
