低融点金属液相を反応場とした半導体気相成長プロセスの開拓

以低熔点金属液相为反应场的半导体气相生长工艺的开发

基本信息

  • 批准号:
    23H01739
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 11.9万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2023
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2023-04-01 至 2026-03-31
  • 项目状态:
    未结题

项目摘要

项目成果

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    門倉七海,佐藤翔輔,今村文彦
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  • 发表时间:
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  • 影响因子:
    0
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    石谷 康平,勝部 涼司;野瀬 嘉太郎
  • 通讯作者:
    野瀬 嘉太郎
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  • 影响因子:
    0
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    $ 11.9万
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