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摂動角相関法による金属多層膜界面の研究

微扰角相关法研究金属多层膜界面

基本信息

批准号：
04224206
负责人：
金沢育三
金额：
$ 0.51万
依托单位：
Tokyo Gakugei University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1992
资助国家：
日本
起止时间：
1992 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

金属多属膜の層内と環介相構造とその乱れ及び、その固相反応による非晶質化について研究をすすめてきた。測定手段は摂動角相関法(TDPAC)及び、低速陽電子ビーム法を主に使用した。試料は高周波マグネトロンスパッター法により作成し、数種類の金属多層膜Cu-Hf(Cu27ÅHf28Å,Cu54ÅHf56Å,Cu228ÅHf218Å,Cu1000ÅHf1000Å)を順備した。試料の一部はTDPACの測定のため、日本原子力研究所東海研JRR-4にて、熱中性子によりHf)81を試料内に導入した。λ〜440Å及び、λ〜2000Åの金属多層膜Cu-Hfについて、X線回折により、〜400℃において、固相反応により非晶質化することが見い出された。これらの金属多層膜について、室温ではHfとCuはそれぞれ(002)と(111)面に対し垂直方向に成長することが観測された。X線回折ではHfはC軸方向に若干拡っているようであったが、非常に興味深いのはTDPAC測定により多層膜中のHfはhcPHf金属構造と異なることである。層内のHf原子核周辺のEFG(Vzz)は、C軸方向でhcPHf金属に比較して高い値を示している。これは層内のHfについてはC軸方向に強い変位が存在していることがわかる。これらの金属多層膜Cu-Hfについて、低速陽電子ビーム法によりその欠陥分布を測定した。非常に興味深い点は層内のHfは非常に多くの微小室孔型格子欠陥を含み、熱活性化された陽電子はほとんどそれらの格子欠陥にトラップし、拡敬できないことである。また多層膜中のHfには、境界相に薄い酸化物相が存在することもわかった。

Most of the metals belong to the internal phase of the membrane, the dielectric phase, the solid phase, the amorphous phase, the microstructure, the temperature, the temperature and the temperature. Determination method dynamic angle phase method (TDPAC) and low-speed diesel engine test method are mainly used in this paper. In high frequency, the equipment of Cu-Hf (Cu27 Hf28, Cu54 Hf56, Cu228 Hf218, Cu1000 Poly Hf1000) is made by the method of high frequency. The materials are TDPAC, Hai Yan JRR-4, Neutron HF) 81, and so on. λ ~ 440T and λ ~ 2000 T, λ ~ 2000 T, λ ~ 440A and λ ~ 440A, λ ~ 440A and λ ~ 440A, λ ~ 440 The surface of the metal multi-film is grown vertically at room temperature, the temperature of the metal multi-film, the temperature, the temperature and the temperature. The X line folds back in the direction of Hf