摂動角相関法による金属人工格子界面構造の研究
微扰角相关法研究金属超晶格界面结构
基本信息
- 批准号:03240210
- 负责人:
- 金额:$ 0.38万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
- 财政年份:1991
- 资助国家:日本
- 起止时间:1991 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
本研究では スパッタリング法で CuーHf金属多層膜を作製し、さらに焼鈍することで 固相反応を起こさせ 非晶合金を得ることを試みた。CuーHf金属多層膜は高周波マグネトロンスパッタにより作製し、実験では層厚が異なる3種類の試料を用いた。それぞれの試料は100℃ステップの焼鈍を行ない非晶質化、さらには 結晶化させていき,その局所構造の変化を TDPACの測定により調べた。3種類の試料は 積層周期が110A^^○〔Cu54A^^○/Hf56A^^○〕,440A^^○〔Cu228A^^○/Hf218A^^○〕,2000A^^○〔Cu1000A^^○/Hf1000A^^○〕で、ト-タルの厚さは すべて10000A^^○である。TDPAC測定はfastーfast系で4検出器により行なった。またTDPACスペクトルの解析は 最大エントロピ-法によった。X線測定により、Hf層及びCu層はそれぞれ(002)面及び(111)面に垂直方向に成長することがわかった。また 層厚110A^^○の場合、作製時で すでに非晶質化されていることがわかった。層厚440A^^○の場合、400゚Cの焼鈍により非晶質化された。また 層厚2000A^^○の場合500゚Cの焼鈍により非晶質化された。非常に興味深いのは、層厚440A^^○及び2000A^^○の場合、作製時、比較的きれいな層になっているにもかかわらず、Hf層内のTDPACスペクトルは Hf結晶が非常にひずんでいることを示めしている。またVzzもHCPHf結晶に比して高く、この傾向はNbーHfーNb多層膜の結果と類似なものとなっている。これらのひずみが 非晶質化にともない減少することから Hf層内の大きなひずみが 非晶質化に対し非常に重異な役割をはたしているものと考えられる。
In this paper, we try to fabricate Cu-Hf multilayers by solid-phase reaction and amorphous alloy deposition. Cu Hf metal multilayer film is used in three kinds of samples with different layer thicknesses All samples were amorphous, crystallized, and structurally modified at 100℃. The three types of samples are stacked at intervals of 110A^^0 [Cu54A^^0/Hf56A^^0], 440A ^^0 [Cu228A^^0/Hf218A^^0], 2000A ^^0 [Cu1000A ^^0/Hf1000A^^0], and 10000A^^0. The TDPAC assay is fast and fast. TDPAC is the most powerful tool in the world. X-ray measurement shows that the Hf layer and Cu layer grow vertically on the (002) plane and the (111) plane. When the thickness of the layer is 110A^^0, it is amorphous during processing. Layer thickness 440A^^0 case, 400 ° C burning passivation, amorphous. In the case of a layer thickness of 2000 A ^^0 and a burn-in temperature of 500 C, the amorphous layer is formed. Very interesting, layer thickness of 440A^^0 and 2000A^^0 cases, processing time, comparison of the layer, Hf layer TDPAC crystal, very interesting, layer thickness of 440A ^^0 and 2000A ^^0 Vzz HCPHf crystal ratio is high, and the tendency is similar to Nb Hf multilayer film. In addition to the above, it is possible to reduce the amount of amorphous silicon in the Hf layer.
项目成果
期刊论文数量(5)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
T,Oguchi,I,Kanazawa.T,Iwashita,W.H,Soe,A,Yamaguchi,and R,Yamamoto: "Solid‐state amorphization in multilayers Cu/Hf stadied by TDPAC" Journal ot Non‐Crystalline Solids.,. (1991)
T、Oguchi、I、Kanazawa。T、Iwashita、W. H、Soe、A、Yamaguchi 和 R、Yamamoto:“TDPAC 所研究的多层 Cu/Hf 中的固态非晶化”《非晶固体杂志》。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
I,Kanazawa,Y,Yamazaki,Y,Sakurai,and T,Iwashita: "The shortーrange strcctures of the icosahedral and amorphous AlーMuーSi alloys detected TDPAC" Jornal ot NonーCrystalline solids. 118. 797-800 (1990)
I、Kanazawa、Y、Yamazaki、Y、Sakurai 和 T、Iwashita:“TDPAC 检测到的二十面体和非晶 Al-Mu-Si 合金的短程结构”Jornal ot 非晶体固体 118。797-800( 1990)
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
I,Kanazawa,T,Ohuta.Y,Yamazaki.Y,Sakurai.S,Nanno and T.Iwashita: "Positron‐annihilation and time‐ditterential‐correlation studies ot the amorphous Al‐Mu‐Si alloy" Physical Review B. 43. 9482-9486 (1991)
I、Kanazawa、T、Ohuta、Yamazaki、Y、Sakurai、S、Nanno 和 T. Iwashita:“非晶态 Al-Mu-Si 合金的正电子湮灭和时间双差相关研究” 物理评论 B. 43 .9482 -9486 (1991)
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