Atomistische Simulation der Selbstorganisation bei der Ionenstrahlerosion

[endnoteref: 1] [endnoteref: 1] [endnoteref: 1] [endnoteref: 1] [endnoteref: 1] [endnoteref: 1] [endnoteref: 1] [endnoteref: 1] [endnoteref: 1] [endnoteref: 1]。1 . Die millionenfache Berechnung atomistische Stoßkaskaden and der nachfolgenden atomaren Relaxationen erfolgt auf experimententellen Raum- and Zeitskalen, when be erstmaling Die in unserem Vorgängerprojekt 2 entwickelte TRIMkMC-Methode umfassend zum Einsatz kommen soll。3 .问题分析：1 .问题分析：1 .问题分析：1 .问题分析：1 .问题分析：1 .问题分析：1 .问题分析：1 .问题分析：1 .问题分析：1 .问题分析：1 .问题分析：1) Glättende Wirkung ionenstrahl- industriierter hangabwärts gerichteter MasseströmeDie glättende Wirkung der Ionen bei nahezu senkrechtem Einfall wurde wegen der musterbildung - catalysierenden Wirkung kleinster Metallkontaminationen in der ersten Förderperiode erst spät erkant and deshalb unzureichend untersucht。(1)“不对称”方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程方程。从<s:1> r höhere Ionenenergien fhrt die asymmetrische r<s:1> ckstos ßatom- und Leerstellenverteilung zu einem Massestrom mit Glättungswirkung，是mit dem neuen trimkmc - simulationsprogram untersucht werden solden。2) musterbildings -katalysierende Wirkung kleinster metalkonzentre Mechanismus der metallatom - gestzten Oberflächenstrukturierung在P3-P5实验中，在P2实验中，在Modellierung and atomistische multicomponent - trimkmc - computersimulationen aufgeklärt [j]。Die trimkmc - method erlaubt Die Beschreibung der Phasenbildung/-separation von metal / silica /Halbleiter and deren rckkopplung auf Die Ionenstrahlerosion。In Zusammenarbeit mit P4 sollen die Muster- and SiOx- bzw。用trimkmc法研究O+和N+离子侵蚀下的六相沉积。3) Ge-Oberflächenmuster mit superschwernclusterionendieneuen Phänomene der ausgeprägten Ge-Oberflächenmuster mit superschwernbi3 - clusterionen in P9 sollen modelliert and simulliert werden。Das musterbilddungmodel basereend auf kleinsten kurzzeitigen Ge-Schmelzen mit 5%iger Volumenänderung and Bi-Segregation wind ausgebaut, in Simulationsprogramm wind entwickelt and mit Teilprojekt P9 <e:1> berpricft。

Die dominierenden Mechanismen der Musterbildung durch Ionenerosion von Oberflächen elementarer Halbleiter sollen durch physikalische Modellierungen und atomistische Computersimulationen aufgeklärt werden. Die millionenfache Berechnung atomistischer Stoßkaskaden und der nachfolgenden atomaren Relaxationen erfolgt auf experimentellen Raum- und Zeitskalen, wobei erstmalig die in unserem Vorgängerprojekt P2 entwickelte TRIMkMC-Methode umfassend zum Einsatz kommen soll. Basierend auf den Ergebnissen der Forschergruppe in den alten Teilprojekten P2-P5 werden die theoretischen Untersuchungen auf 3 Probleme fokussiert, die jeweils im Sinne eines Multiskalenansatzes gemeinsam mit den anderen theoretischen Projekten P1 und P10 eine Aufklärung erfahren sollen: 1) Glättende Wirkung ionenstrahl-induzierter hangabwärts gerichteter MasseströmeDie glättende Wirkung der Ionen bei nahezu senkrechtem Einfall wurde wegen der Musterbildungs-katalysierenden Wirkung kleinster Metallkontaminationen in der ersten Förderperiode erst spät erkannt und deshalb unzureichend untersucht. Bei kleinen Ionenenergien bilden sich asymmetrische Einschlagkrater mit hangabwärts erhöhtem Masseauswurf, welche in P10 berechnet und in vorliegendem Projekt P2 als Eingangsdaten für kinetische Monte-Carlo (kMC) Simulationen verwendet werden. Für höhere Ionenenergien führt die asymmetrische Rückstoßatom- und Leerstellenverteilung zu einem Massestrom mit Glättungswirkung, was mit dem neuen TRIMkMC-Simulationsprogramm untersucht werden soll.2) Musterbildungs-katalysierende Wirkung kleinster MetallkonzentrationenDer katalytische Mechanismus der Metallatom-gestützten Oberflächenstrukturierung wird in P3-P5 experimentell untersucht und soll in P2 durch Modellierung und atomistische Multikomponenten-TRIMkMC-Computersimulationen aufgeklärt werden. Die TRIMkMC-Methode erlaubt die Beschreibung der Phasenbildung/-separation von Metall/Silicid/Halbleiter und deren Rückkopplung auf die Ionenstrahlerosion. In Zusammenarbeit mit P4 sollen die Muster- und SiOx- bzw. SiNx-Phasenbildung bei der Erosion mit O+- und N+-Ionen mit der TRIMkMC-Methode untersucht werden.3) Ge-Oberflächenmuster mit superschweren ClusterionenDie neuen Phänomene der ausgeprägten Ge-Oberflächenmuster mit superschweren Bi3-Clusterionen in P9 sollen modelliert und simuliert werden. Das Musterbildungsmodell basierend auf kleinsten kurzzeitigen Ge-Schmelzen mit 5%iger Volumenänderung und Bi-Segregation wird ausgebaut, ein Simulationsprogramm wird entwickelt und mit Teilprojekt P9 überprüft.