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低速水素イオン照射装置の高輝度化によるグラフェンの水素イオン透過機構の解明

低速水素イオン照射装置の高輝度化によるグラフェンの水素イオン透過機構の解明
通过提高慢速氢离子辐照装置的亮度阐明石墨烯的氢离子渗透机制
批准号：
23K04548
负责人：
寺澤 知潮
金额：
$3.0万
依托单位：
Japan Atomic Energy Agency
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2023
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2023-04-01 至 2026-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-23K04548/
关键词：
グラフェン水素イオン同位体効果

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グラフェン/SiC界面への水素侵入のその場観察による機構解明
  • 批准号：
    18H05955
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
  • 资助金额：
    $1.91万
  • 财政年份：
    2018
  • 负责人：
    寺澤 知潮
  • 依托单位：
    Japan Atomic Energy Agency
グラフェンの化学気相成長過程における核形成機構と成長端での原子取込み機構の解明
  • 批准号：
    13J10382
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $1.41万
  • 财政年份：
    2013
  • 负责人：
    寺澤 知潮
  • 依托单位：
    The University of Tokyo
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