酸化物超伝導体の磁束ピンニングに関する研究
酸化物超伝導体の磁束ピンニングに関する研究
批准号:
01644503
负责人:
渡辺 和雄
金额:
$1.47万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
1989
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1989 至 --
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英文摘要
本研究では、酸化物超伝導体の磁束ピンニングを解明するため1.臨界電流を決定する基準を最初に検討すること2.組織とHc_2、Jcの関係を検討すること3.磁束ピンニング曲線、磁束ピン止め中心を検討することを中心に置いて実験を行った。得られた成果は以下の通りである。1.酸化物超伝導体は磁束クリ-プの問題が報告されており、臨界電流はその決定基準によって桁違いに変化するかも知れないと心配された。、しかし、電流・電圧特性から得られるV〓I^nのn値がn=6程度まで小さくなった場合、IμV/cmと0.1μV/cmのようにI桁感度を上げることで、Jc値は1.47倍であることを示した。2.CVD法薄膜のHc_2は抵抗R=0で定義した場合であっても77KでHc_2【approximately equal】60Tが得られる。EPMAによる観察では、表面にCuO析出物が多数見られた。強くC軸配向した試料中にわずかにa軸配向した結晶粒が混在しているが、これとJcの相関はHc_2の異方性の度合と関係している。3.TEMによる観察では、ab面内に200〜300Åのディスク状の析出物が多数見られた。ディスクの厚さは10〜20Åであった。この析出物の配置と密度から磁束ピン止め力Fpを評価してJcを算出すると77K、16Tで2×10^4A/cm^2程度のJc値が得られ実験値と同程度になることが分かった。
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H.Morita: "Critical Current Density and Its Hysteresis in Magnetic Field for Ba-Y-Cu-O Films Prepared by a Sputtering Technique," Jpn.J.Appl.Phys.28. L628-L630 (1989)
H.Morita:“溅射技术制备的 Ba-Y-Cu-O 薄膜的临界电流密度及其在磁场中的磁滞”,Jpn.J.Appl.Phys.28。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Y.Muto: "Transport Critical Current and Morphology for Y-Ba-Cu-O Films Prepared by Chemical Vapor Deposition." Physica C. 162-164. 105-106 (1989)
Y.Muto:“化学气相沉积制备的 Y-Ba-Cu-O 薄膜的传输临界电流和形貌。”
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Y.Muto: "Macroscopic Nature of Transport Properties in High T_C Superconductors." Proc.Honda Int.Symp.on the Application of High Magnetic Field to Materials Science.(1990)
Y.Muto:“高 T_C 超导体输运特性的宏观性质。”
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
K.Watanabe: "Critical Currents at 77.3 K under Magnetic Fields up to27 T for an Y-Ba-Cu-O Film Prepared by Chemical Vapor Deposition." Appl.Phys.Lett.54. 575-577 (1989)
K.Watanabe:“化学气相沉积制备 Y-Ba-Cu-O 薄膜在高达 27 T 的磁场下 77.3 K 的临界电流。”
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
K.Watanabe: "Critical Current Criterion in High-T_C Superconducting Films," Jpn.J.Appl.Phys.28. L1417-L1420 (1989)
K.Watanabe:“高温超导薄膜中的临界电流标准”,Jpn.J.Appl.Phys.28。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 6 条
強磁場中におけるf-d金属間化合物の磁性と構造
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批准号:09F09227
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2009
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负责人:渡辺 和雄
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依托单位:
高温超伝導体の極微小抵抗状態における第2熱的安定点の研究
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批准号:17656103
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.98万
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财政年份:2005
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负责人:渡辺 和雄
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依托单位:
高電磁応力状態におけるBi系高温超伝導テープ材の超伝導特性
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批准号:08650363
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$1.09万
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财政年份:1996
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负责人:渡辺 和雄
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依托单位:
磁場中低温X線回折用超伝導マグネット装置の開発研究
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批准号:06555001
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项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research (B)
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资助金额:$5.25万
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财政年份:1994
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负责人:渡辺 和雄
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依托单位:
酸化物超伝導体の磁束ピンニングに関する研究
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批准号:03210203
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1991
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负责人:渡辺 和雄
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依托单位:
酸化物超伝導体の磁束ピンニングに関する研究
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批准号:02226204
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.41万
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财政年份:1990
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负责人:渡辺 和雄
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依托单位:
AlメッキNbフィラメント伸線加工法によるNb_3Al線材
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批准号:62750646
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1987
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负责人:渡辺 和雄
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依托单位:
プラズマイオンプレーティング法による NbN, ( NbTa )N超電導材料の研究
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批准号:60750692
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1985
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负责人:渡辺 和雄
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依托单位:
海外基金