軟X線領域の光学定数と外部光電効果の研究

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軟X線領域における光電収率は軟X線の入射角と光子エネルギ-に依存するので、垂直入射の時の値で規格化した相対的光電収率を表現するのにX軸を入射角,Y軸を光子エネルギ-,Z軸を相対的光電収率とする三次元グラフを用いると変化の様相の全体像を視覚的に把握することができ理解し易い。このような三次元表現を可能とするプログラムを開発し,軟X線多層膜光学素子の製作に用いられる物質について,入射角0〜90度,光子エネルギ-100〜1000のVの領域で,光学定数と電子の平均的脱出深さから相対的光電収率の計算を行い、結果を三次元グラフで表現した。計算の対象とした物質はAu,Pt,W,Mo,Ag,Rh,Al,Si,SiO_2,C,Niの11種である。これらの計算結果はX線結像光学の研究会と公開シンポジウムで発表した。東北大グル-プの実験結果と合致する計算結果となっている。東亜大学工学部で使用中のパソコンPC9801RXに4MBのRAMボ-ドを取付けハ-ドウェアEMS方式で有効記憶容量を増強し,補助記憶装置としては80MBのハ-ドディスクを用いて規模の大きい計算に効果的に対応できるようにした。無停電電源装置で計算中の不時の停電に備え,3.5インチフロッピ-ディスク装置でデ-タ保存の安全性を高めた。計算結果の印刷にはインクジェットプリンタとカラ-プリンタを用いて美しい仕上りが得られた。FORTRANとC言語によるプログラムの開発もこれらに必要なコンパイラの導入によって準備が進んだ。今後の課題は、定量的に利用できる三次元グラフとするためのプログラムの改良,大型計算機を用いたグラフの分解能の向上,基板上の超薄膜,多層膜についての計算と計算結果の三次元グラフによる表現である。