课题基金 / 基金详情

ソフト溶液プロセスによるセラミック/金属系傾斜機能材料のin situ作製

ソフト溶液プロセスによるセラミック/金属系傾斜機能材料のin situ作製
软溶液法原位制备陶瓷/金属功能梯度材料
批准号：
08243221
负责人：
吉村 昌弘
金额：
$1.41万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1996
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1996 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-08243221/
关键词：
BaTiO_3CaTiO_3SrWO_4カーボン膜ソフト溶液プロセス傾斜機能材料チタン

项目摘要

项目成果

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溶液と金属基板あるいは基材との界面化学反応によってセラミックスを必要な箇所に薄膜や厚膜などとしてその場(in situ)に作製してセラミックス/金属系傾斜機能材料を作るというプロセスを開発することを目的として、本研究では水熱反応のみならず電気化学反応なども利用した5つの研究を行った。得られた知見は以下の通りである。(1)チタン合金をCa^<2+>を含むアルカリ溶液中で反応させると表面にCaTiO3膜が生成する。(2)チタン金属基材をBa^<2+>またはSr^<2+>,Ca^<2+>を含むアルカリ溶液中で処理するとBaTiO_3,SrTiO_3,CaTiO_3あるいはそれらの固溶体が膜状に生成する。この時チタン金属多孔体や厚粉体を用いると孔の内面が一様に酸化物で覆われる。(3)金属間化合物TiAlやTi基あるいはAl基合金は新しい耐熱高温材料として期待されているが、耐酸化性が大きな欠点である。これらの基材を水溶液中で電気化学的に処理して表面に酸化物被膜をコーティングすると耐酸化性が向上する。(4)我々は、タングステン基板をBa^<2+>やCa^<2+>を含むアルカリ水溶液中で電気化学処理するとBaWO_4やCaWO_4の結晶が膜状に生成することを見出している。これらの膜は結晶性に優れ、そのままでも蛍光体として作動する。(5)Si-C-O系、Si-Ti-C-O系の繊維や他の炭化物基材を数百℃の熱水中で処理すると表面に緻密なカーボン膜が生成し炭化物/炭素複合体となる。
期刊论文(12)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
吉村昌弘: "「ソフト溶液プロセス」とは何か?" 材料. 45. 829-830 (1996)
Masahiro Yoshimura：“什么是‘软溶液工艺’？” 材料。 45. 829-830 (1996)
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
Koji Kajiyoshi: "Growth Mechanism of ATiO_3(A=Ba,Sr) Thin Film by the Hydrothermal-Electrochemical Method" Euro.J.Solid State Inorg.Chem.33. 623-635 (1996)
Koji Kajiyoshi：“水热电化学法制备 ATiO_3(A=Ba,Sr) 薄膜的生长机制”Euro.J.Solid State Inorg.Chem.33。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
吉村昌弘: "ソフト溶液プロセスによる高機能セラミックスの開発-その特色と意義-" ニューセラミックス. 8. 73-77 (1996)
Masahiro Yoshimura：“通过软溶液工艺开发高性能陶瓷 - 其特点和意义”《新陶瓷》8. 73-77 (1996)。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
Woo-Seok Cho: "Preparation of Crystallized Ba-Rich Ba1-xCaxWO4 solid-Solution Films by an Electrochemical Method at Room Temperature and their Luminescence" Jpn.J.Appl.Phys.35. L1447-L1451 (1996)
Woo-Seok Cho：“室温下电化学方法制备结晶富BaBa1-xCaxWO4固溶体薄膜及其发光”Jpn.J.Appl.Phys.35。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
共 6 条
    ソフト溶液プロセスによる高機能セラミックス薄膜
    • 批准号：
      06F06404
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额：
      $0.77万
    • 财政年份：
      2006
    • 负责人：
      吉村 昌弘
    • 依托单位：
      Tokyo Institute of Technology
    融体急冷非晶質を用いる新しいセラミックナノコンポジットの作製
    • 批准号：
      03F00752
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额：
      $0.96万
    • 财政年份：
      2003
    • 负责人：
      吉村 昌弘
    • 依托单位：
      Tokyo Institute of Technology
    融体急冷非晶質を用いる新しいセラミックナノコンポジットの作製
    • 批准号：
      03F03752
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额：
      $0.96万
    • 财政年份：
      2003
    • 负责人：
      吉村 昌弘
    • 依托单位：
      Tokyo Institute of Technology
    融体急冷法による多成分セラミックスナノ材料の作製と評価
    • 批准号：
      02F00795
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for JSPS Fellows
    • 资助金额：
      $0.58万
    • 财政年份：
      2002
    • 负责人：
      吉村 昌弘
    • 依托单位：
      Tokyo Institute of Technology
    海外基金