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非晶質傾斜超格子を用いた極低雑音アバランシェ増幅型光導電膜の研究

非晶梯度超晶格超低噪声雪崩放大光电导薄膜研究

基本信息

批准号：
09229228
负责人：
安藤隆男
金额：
$ 1.09万
依托单位：
Shizuoka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1997
资助国家：
日本
起止时间：
1997 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

a-Si:H/a-Si_<1-x>C_x:H傾斜超格子アバランシェフォトダイオード簿膜において,入射したフォトンは,平成8年度の研究の結果より,電子がこのバンドオフセット領域で,ほぼ100%の確率でインパクトイオン化を起こすことがわかった.まず本年度は,コンダクションバンドオフセットの働きを明確にするために,コンダクションバンドオフセットの値を変化させ,フォトダイオードに流れる光電流特性を調べた.1段の傾斜構造を持つフォトダイオードにおいて光電流が増倍を開始する電圧と,傾斜構造におけるコンダクションバンドオフセットの大きさとの関係を調べた.コンダクションバンドオフセットの大きさを増やしていくと増倍を開始する閾値電圧は減少し,バンドオフセットが0.4eVのとき最も低い電圧で増倍を開始した.しかしながらそれ以上にバンドオフセットを増加させると,逆にインパクトイオン化を開始する閾値電圧は増加する結果を得た.これは,これまで予想していた結果と相反する結果であった.この原因は,バンドオフセットを増やす目的で炭素の混入量を増やすと,膜中の欠陥が増大することにより移動度の低下が起こったためではないかと考えている.従ってインパクトイオン化の閾値電圧の低減化を図る上でaーSiC:H層での高移動化は必須である.本年度はさらに,光電変換デバイスとして最も重要なアモルファスシリコン系フォトダイオード暗電流の発生機構について検討を行った.その結果,低電界側での暗電流と高電界側での暗電流ではその発生機構が異なることを見いだし,暗電流の低減化を図る指針を得た.

a-Si:H/a-Si_<1-x>C_x:H inclined superlattice thin film, incident light, the results of the research in Heisei 8 years, the electron transfer field, the accuracy of 100% of the start of the transfer. This year, the value of the photocurrent characteristic of the first phase of the inclined structure has been adjusted. The photocurrent characteristic of the first phase of the inclined structure has been adjusted. The voltage of the first phase of the inclined structure has been adjusted. The threshold voltage at the beginning of the voltage increase is reduced to 0.4eV and the minimum voltage at the beginning of the voltage increase is increased to 0.4eV. The threshold voltage at the beginning of the conversion process increases. The result of the experiment is that it is impossible to find the correct answer. The reason for this is that the amount of carbon mixed in the film increases, the amount of carbon mixed in the film increases, and the mobility decreases. The threshold voltage of SiC:H layer must be increased. This year, the photoelectric conversion technology is the most important part of the development of the dark current generation mechanism. As a result, the dark current on the low electric field side and the dark current on the high electric field side are different in the generation mechanism, and the dark current is reduced.