格子欠陥構造制御に基づく機能構成体の創製に関する研究
格子欠陥構造制御に基づく機能構成体の創製に関する研究
批准号:
20047010
负责人:
中村 篤智
金额:
$2.82万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
2008
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2008 至 2009
中文摘要
1. LiNbO3結晶における格子欠陥の微構造解析代表的な圧電結晶の1つであるLiNbO_3の小傾角粒界を双結晶実験により作製し、圧電結晶特有の格子欠陥構造の評価を透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて行った。また、双結晶実験によって、Ti添加が界面構造へ及ぼす影響についても調査した.無添加小傾角粒界では、結晶格子のひずみのため、界面近傍に100-200nm程度の粒状のコントラスト領域が形成されているのが分かった。Ti添加された場合では、無添加で観察された粒状のコントラストがほとんど認められない。つまり、Ti添加は界面の格子ひずみを抑制する効果があると考えられる。2. サファイアの拡散接合におけるCr添加の影響サファイア基板の表面に対して方位制御やCrの導入を施し,それら2枚の基板を重ね合わせて高温拡散接合を行った.その後,接合状態および界面構造を解析するためにTEMを用いて接合界面の観察を行った.(0001)基板を用いて、ねじり型の接合をねじり角0~7゜,Cr膜厚0~4nmの範囲で変化させて15パターンの接合を行った結果、高温拡散接合を用いたねじり型の接合では、Crの導入量が増えることで接合性が低下し,ねじり角θが大きくなることで接合可能な限界となるCr導入量が大きくなることが分かった.(11-20)基板を用いた傾角型の接合においても,おおよそねじり型の接合と同様にCrの導入量が増えることで接合性が低下し,傾角θが大きくなることで接合可能な限界となるCr導入量が大きくなる傾向が見られた.さらに、EDS分析の結果から,接合前に基板全面に導入したCrは,接合後には接合界面の転位周辺領域に偏在していることが示唆されている.このように,方位差の小さな結晶の拡散接合において、接合界面における転位が添加物の拡散経路や蓄積のポイントとして作用していることが明らかとなった.
英文摘要
1. LiNbO3結晶における格子欠陥の微構造解析代表的な圧電結晶の1つであるLiNbO_3の小傾角粒界を双結晶実験により作製し、圧電結晶特有の格子欠陥構造の評価を透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて行った。また、双結晶実験によって、Ti添加が界面構造へ及ぼす影響についても調査した.無添加小傾角粒界では、結晶格子のひずみのため、界面近傍に100-200nm程度の粒状のコントラスト領域が形成されているのが分かった。Ti添加された場合では、無添加で観察された粒状のコントラストがほとんど認められない。つまり、Ti添加は界面の格子ひずみを抑制する効果があると考えられる。2. サファイアの拡散接合におけるCr添加の影響サファイア基板の表面に対して方位制御やCrの導入を施し,それら2枚の基板を重ね合わせて高温拡散接合を行った.その後,接合状態および界面構造を解析するためにTEMを用いて接合界面の観察を行った.(0001)基板を用いて、ねじり型の接合をねじり角0~7゜,Cr膜厚0~4nmの範囲で変化させて15パターンの接合を行った結果、高温拡散接合を用いたねじり型の接合では、Crの導入量が増えることで接合性が低下し,ねじり角θが大きくなることで接合可能な限界となるCr導入量が大きくなることが分かった.(11-20)基板を用いた傾角型の接合においても,おおよそねじり型の接合と同様にCrの導入量が増えることで接合性が低下し,傾角θが大きくなることで接合可能な限界となるCr導入量が大きくなる傾向が見られた.さらに、EDS分析の結果から,接合前に基板全面に導入したCrは,接合後には接合界面の転位周辺領域に偏在していることが示唆されている.このように,方位差の小さな結晶の拡散接合において、接合界面における転位が添加物の拡散経路や蓄積のポイントとして作用していることが明らかとなった.
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Si含有HAp結晶の合成とその透過型電子顕微鏡観察
含硅HAp晶体的合成及透射电子显微镜观察
DOI:
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发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[中村篤智, 西川公実子, 岸田逸平, 横川善之]
通讯作者:
横川善之
In-situ observations of twin formation in sapphire(α-Al_2O_3)
蓝宝石(α-Al_2O_3)孪晶形成的原位观察
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Eita Tochigi, Naoya Shibata, Atsutomo Nakamura, Takahisa Yamamoto, Yuichi Ikuhara]
通讯作者:
Yuichi Ikuhara
Al/Si比の異なるゼオライト粉末の合成とその硫化物吸着特性
不同Al/Si比沸石粉体的合成及其硫化物吸附性能
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[岸田逸平, 宇鷹宏晃, 中村篤智, 横川善之]
通讯作者:
横川善之
Structure and Configuration of Boundary Dislocations on Low Angle Tilt Grain Boundaries in Alumina
氧化铝小角度倾斜晶界上晶界位错的结构和配置
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
Mater. Trans. Vol.50
影响因子:
--
作者:
[A. Nakamura, E. Tochigi, N. Shibata, T. Yamamoto, Y. Ikuhara]
通讯作者:
Y. Ikuhara
LiNbO_3結晶表面に形成されたビッカース圧痕のFE-SEM像に及ぼす表面応力場の影響
表面应力场对LiNbO_3晶体表面维氏压痕FE-SEM图像的影响
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[岩本瞬, 中村篤智, 岸田逸平, 横川善之]
通讯作者:
横川善之
共 24 条
光環境制御下における非対称構造型半導体のミクロ変形挙動と構造電荷効果の解明
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批准号:24H00285
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$30.87万
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财政年份:2024
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负责人:中村 篤智
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依托单位:
規則転位配列を利用した高機能ナノ構造実現のための設計指針探索
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批准号:23K17722
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
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资助金额:$4.16万
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财政年份:2023
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负责人:中村 篤智
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依托单位:
固体物質の塑性変形挙動に及ぼす光照射効果のメカニズム解明
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批准号:21H04532
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$27.46万
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财政年份:2021
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负责人:中村 篤智
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依托单位:
セラミック材料の表面および表面近傍における新しい格子欠陥解析法の開発
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批准号:18760532
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$2.3万
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财政年份:2006
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负责人:中村 篤智
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依托单位:
結晶格子欠陥を利用した新しいナノデバイスの研究開発
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批准号:04J01318
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.77万
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财政年份:2004
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负责人:中村 篤智
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依托单位:
海外基金