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Establishment of bonding pretreatment using low temperature atmospheric pressure plasma

Establishment of bonding pretreatment using low temperature atmospheric pressure plasma
低温常压等离子体键合预处理的建立
批准号:
15K20463
负责人:
FUJII Takamasa
金额:
$2.41万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2015
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2015-04-01 至 2018-03-31

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低温大気圧プラズマ処理がY-TZPの表面性状に与える影響
低温常压等离子体处理对Y-TZP表面性能的影响
DOI: --
发表时间: 2015
期刊:
影响因子: --
作者: [伊東優樹, 大河貴久, 山村高也, 福本貴宏, 中川修佑, 藤井孝政, 田中昌博]
通讯作者: 田中昌博
Influence of plasma treatment on surface properties of zirconia
等离子体处理对氧化锆表面性能的影响
DOI: 10.18905/jodu.50.2_79
发表时间: 2016
期刊: Journal of Osaka Dental University
影响因子: --
作者: [Ito Y, Okawa T, Fujii T, Tanaka M.]
通讯作者: Tanaka M.
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表面处理方法对冠状牙本质与粘合树脂水门汀粘结强度的影响
DOI: --
发表时间: 2017
期刊:
影响因子: --
作者: [山村高也, 大河貴久, 吉江 啓, 伊東優樹, 宮園将也, 藤井孝政, 鳥井克典, 田中昌博]
通讯作者: 田中昌博
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低温常压等离子体对各种冠修复材料润湿性的优化条件
DOI: --
发表时间: 2016
期刊:
影响因子: --
作者: [山村高也, 大河貴久, 吉江 啓, 伊東優樹, 宮園将也, 藤井孝政, 鳥井克典, 田中昌博, 山村高也,大河貴久,伊東優樹,吉江 啓,藤井孝政,田中昌博]
通讯作者: 山村高也,大河貴久,伊東優樹,吉江 啓,藤井孝政,田中昌博
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