GaAs 表面変成層に関する研究
GaAs 表面変成層に関する研究
批准号:
X45210------5001
负责人:
越賀 夫差子
金额:
$0.12万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
1970
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1970 至 --
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会议论文
ハロゲン元素を含む雰囲気でのSiプラズマ陽極酸化の研究
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批准号:57550185
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$0.83万
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财政年份:1982
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负责人:越賀 夫差子
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依托单位:
ハロゲン元素を含む雰囲気でのSiプラズマ陽極酸化の応用
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批准号:56550208
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.02万
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财政年份:1981
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负责人:越賀 夫差子
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依托单位: