ハロゲン元素を含む雰囲気でのSiプラズマ陽極酸化の研究
ハロゲン元素を含む雰囲気でのSiプラズマ陽極酸化の研究
含卤气氛中硅等离子体阳极氧化研究
批准号：
57550185
负责人：
越賀 夫差子
金额：
$0.83万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份：
1982
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1982 至 --
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会议论文
ハロゲン元素を含む雰囲気でのSiプラズマ陽極酸化の応用
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批准号：56550208
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项目类别：Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额：$1.02万
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财政年份：1981
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负责人：越賀 夫差子
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依托单位：
GaAs 表面変成層に関する研究
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批准号：X45210------5001
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项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额：$0.12万
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财政年份：1970
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负责人：越賀 夫差子
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依托单位：