帯電粉体を用いる多目的コーティングに関する研究
帯電粉体を用いる多目的コーティングに関する研究
批准号:
X00080----847039
负责人:
長坂 秀雄
金额:
$2.05万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
财政年份:
1973
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1973 至 1974
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会议论文
半導体プラズマプロセスのための新しい直流放電型プラズマ源, イオン源の開発
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批准号:57550184
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1982
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负责人:長坂 秀雄
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依托单位: