高密度励起下での半導体の一軸応力効果の研究
高密度励起下での半導体の一軸応力効果の研究
批准号:
X00210----075474
负责人:
瀬川 勇三郎
金额:
$0.19万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
1975
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1975 至 --
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会议论文
イオン結晶量子井戸の光学的性質に関する研究
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批准号:05640394
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1993
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负责人:瀬川 勇三郎
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依托单位:
半導体表面での電磁波に対する付加境界条件の決定に関する研究
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批准号:58540192
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$0.96万
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财政年份:1983
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负责人:瀬川 勇三郎
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依托单位:
ピコ秒グレーティング法を用いた, 半導体の素励起の拡散過程の研究
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批准号:X00210----474144
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1979
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负责人:瀬川 勇三郎
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依托单位:
ピコ秒レーザーを用いた半導体発光の減衰時間の測定とその素子評価への応用
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批准号:X00210----275017
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.26万
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财政年份:1977
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负责人:瀬川 勇三郎
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依托单位:
反射磁気光学効果による半導体表面の研究
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批准号:X00210----775016
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.14万
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财政年份:1972
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负责人:瀬川 勇三郎
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依托单位: