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III-V族化合物半導体素子の表面不活性化
III-V族化合物半导体器件的表面钝化
基本信息
- 批准号：X00040----220306
- 负责人：
- 金额：$ 1.92万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Special Project Research
- 财政年份：1977
- 资助国家：日本
- 起止时间：1977 至 无数据
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
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- 影响因子：0
- 作者：
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- DOI：
- 发表时间：
2005 - 期刊：
- 影响因子：0
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R.Tamura;K.Edagawa;Y.Murao;S.Takeuchi;K.Suzuki;M.Ichihara;M.Isobe;Y.Ueda;J.Nishizawa;J.Nishizawa;T.Tanabe;T.Tanabe;T.Tanabe;須藤 建;田邉 匡生;Koichi Nakamura;Masao Ono;Tsutomu Mashimo - 通讯作者：
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- 影响因子：0
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R.Tamura;K.Edagawa;Y.Murao;S.Takeuchi;K.Suzuki;M.Ichihara;M.Isobe;Y.Ueda;J.Nishizawa;J.Nishizawa;T.Tanabe;T.Tanabe;T.Tanabe;須藤 建;田邉 匡生;Koichi Nakamura;Masao Ono;Tsutomu Mashimo;Masao Ono;Masao Ono;M.Tatsumisago;A.Hayashi;A.Hayashi;T.Minami;F.Mizuno;F.Mizuno - 通讯作者：
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