高分子アミン・金属錯体中で生成するラジカルの反応性に関する研究
高分子アミン・金属錯体中で生成するラジカルの反応性に関する研究
批准号:
X00210----275478
负责人:
大谷 規隆
金额:
$0.24万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
1977
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1977 至 --
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会议论文
新規カチオン性イオノマ-の合成とその相間移動触媒への応用
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批准号:03650688
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$0.83万
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财政年份:1991
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负责人:大谷 規隆
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依托单位:
無機固体‐高分子電解質複合体の高分子試薬および高分子蝕媒としての利用
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批准号:57550557
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1982
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负责人:大谷 規隆
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依托单位: