Neuartiger Prozeß zur Plasma-CVD-Synthese von kohlenstoffhaltigen Hartstoffschichten an der Luftatmosphäre

我是一名物理技术人员--等离子体-CVD-Verfahren zur合成这些技术人员。Dazu soll nach DEM eines optischen plmatrons ein stationäres等离子和Lft Durch Die Optische Anregung von Prozeügasen im EktroMagtischen Feld eines几千瓦-cw激光ERzeugt。本文报道了血浆马鞭草烯Schichten(Z.B.DLC，Diamant，CN)在等离子体-化学气相沉积合成过程中前体酶的变化。他说：“这是一件很重要的事情，因为这是一件很重要的事情。激光等离子体温(15000-20000 K)是等离子体的离解和电离的速率。AuüErdem sind wegen des gegenüber and deren等离子-CVD-Verfahren um Gröber enordnungen höheren prozeüdrucks wesentlich höhere Beschichtungsraten ALS MIT den Vakuumverfahren erreichbar.

Im beantragten Forschungsvorhaben sollen die physikalisch-technischen Grundlagen für ein neuartiges Plasma-CVD-Verfahren zur Synthese von kohlenstoffhaltigen Hartstoffschichten an Luftatmosphäre untersucht werden. Dazu soll nach dem Prinzip eines optischen Plasmatrons ein stationäres Plasma an Luft durch die optische Anregung von Prozeßgasen im elektromagnetischen Feld eines Multikilowatt-cw.Lasers erzeugt werden. Durch Variation der precursorgase und der Abscheidebedingungen sollen in diesem Plasma verschiedene Schichten (z.B. DLC, Diamant, CN) durch Plasma-CVD synthetisiert werden. Das Verfahren zeichnet sich insbesondere dadurch aus, daß auf eine Beschichtungskammer und damit auf eine Vakuumapparatur vollständig verzichtet werden kann. Aufgrund der hohen Temperaturen der lasererzeugten Plasmen (15000 - 20000 K) sind die dissoziations- und Ionisationsraten der Moleküle im Plasma sehr hoch. außerdem sind wegen des gegenüber anderen Plasma-CVD-Verfahren um Größenordnungen höheren Prozeßdrucks wesentlich höhere Beschichtungsraten als mit den Vakuumverfahren erreichbar.