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光集積回路用・透明磁性材料の基礎および応用に関する研究

光集積回路用・透明磁性材料の基礎および応用に関する研究
光集成电路透明磁性材料基础及应用研究
批准号：
X00090----555122
负责人：
阿部 正紀
金额：
$1.41万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份：
1980
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1980 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-X00090----555122/
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フェライト薄膜の水溶液中作製と軽重量電磁ノイズ吸収体への応用
  • 批准号：
    02F00328
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $1.34万
  • 财政年份：
    2002
  • 负责人：
    阿部 正紀
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
湿式法による高熱電能FeSi系酸化物膜の高速形成
  • 批准号：
    04203214
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $2.11万
  • 财政年份：
    1992
  • 负责人：
    阿部 正紀
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
湿式法による高熱電能材料アモルファスFe(SiO)_2厚膜の高速形成
  • 批准号：
    03203219
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $1.79万
  • 财政年份：
    1991
  • 负责人：
    阿部 正紀
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
巨大ファラデー回転を示す光磁気メモリー用高濃度Bi置換ガーネット膜の作製
  • 批准号：
    59550211
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $0.9万
  • 财政年份：
    1984
  • 负责人：
    阿部 正紀
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology