XAFSによる電極界面構造解析・銀単結晶上の臭素吸着系を中心として
XAFSによる電極界面構造解析・銀単結晶上の臭素吸着系を中心として
批准号:
10131214
负责人:
太田 俊明
金额:
$1.15万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
财政年份:
1998
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1998 至 --
中文摘要
(1) Ag(100)電極上の臭素のXAFS表題の系は-0.76V(0.35ML)で秩序・無秩序転移が起こることが知られており、秩序層では、c(2x2)の臭素吸着層を形成している。我々はこの秩序層での臭素原子の周りの局所構造をXAFS法によって調べた。実験はin situ条件下で行い、、全反射法で散乱X線を抑えることにより、満足なXAFSスペクトル測定に成功した。BrK吸収瑞XANESからは、Brから電極基板への電荷移動がおこっていることが分かった。EXAFS解析からは、BrがAg(100)面上のfourfold hollow siteにR(Br-A9)=2.82Aの結合距離で吸着していることが分かった。以上の結果は、最近のX線表面回折の結果と定性的には一致しているが、定量的にはかなり異なり、我々の結果は、臭素原子が銀基板に強い共有結合性をもって結合していることを示している。(2) 銅基板上のアルカンチオールの吸着構造代表的な自己組織化膜であるアルカンチオールが銅基板とどのように結合しているかを主として表面XAFSとSTMを用いて調べた。飽和吸着状態のCK-NEXAFSからは、アルカンチオールが基板表面から70度の傾きで立っていること、EXAFSからは、アルキルチオレイトとして基板に吸着し、Sが再配列しないCu(100)面上にfourfold hollow siteに吸着する構造をとること、Cu(111)面上では、基板の大きな再配列を伴い、S原子が基板に深く潜り込んだthreefold hollow siteに吸着する構造をとることが分かった。STMからは、アルカンチオールの被覆率によって、表面の吸着の振る舞いがどのように変わるかを詳細に調べることができた。これら2つの手法による結果をまとめることにより、アルカンチオールと金属基板との相互作用に関する詳細な描像を得ることができた。
英文摘要
(1) Ag(100)電極上の臭素のXAFS表題の系は-0.76V(0.35ML)で秩序・無秩序転移が起こることが知られており、秩序層では、c(2x2)の臭素吸着層を形成している。我々はこの秩序層での臭素原子の周りの局所構造をXAFS法によって調べた。実験はin situ条件下で行い、、全反射法で散乱X線を抑えることにより、満足なXAFSスペクトル測定に成功した。BrK吸収瑞XANESからは、Brから電極基板への電荷移動がおこっていることが分かった。EXAFS解析からは、BrがAg(100)面上のfourfold hollow siteにR(Br-A9)=2.82Aの結合距離で吸着していることが分かった。以上の結果は、最近のX線表面回折の結果と定性的には一致しているが、定量的にはかなり異なり、我々の結果は、臭素原子が銀基板に強い共有結合性をもって結合していることを示している。(2) 銅基板上のアルカンチオールの吸着構造代表的な自己組織化膜であるアルカンチオールが銅基板とどのように結合しているかを主として表面XAFSとSTMを用いて調べた。飽和吸着状態のCK-NEXAFSからは、アルカンチオールが基板表面から70度の傾きで立っていること、EXAFSからは、アルキルチオレイトとして基板に吸着し、Sが再配列しないCu(100)面上にfourfold hollow siteに吸着する構造をとること、Cu(111)面上では、基板の大きな再配列を伴い、S原子が基板に深く潜り込んだthreefold hollow siteに吸着する構造をとることが分かった。STMからは、アルカンチオールの被覆率によって、表面の吸着の振る舞いがどのように変わるかを詳細に調べることができた。これら2つの手法による結果をまとめることにより、アルカンチオールと金属基板との相互作用に関する詳細な描像を得ることができた。
期刊论文(2)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
T..Tsudzuki e al: "Adsorption structures of alkanethiols self-assembled monolavers on a Cu(l00) surface studied by SK EXAFS and CK NEXAFS" J.Synchrotron Radiation. In press. (1999)
T..Tsudzuki 等人:“SK EXAFS 和 CK NEXAFS 研究了 Cu(l00) 表面上烷硫醇自组装单层的吸附结构”J.Synchrotron Radiation。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
A.lmanishi et al: "Structural studies of adsorbed alkanethiols on Cu(111) by use of S and CK-edge x-ray absorption fine structure" Surface Science. 407. 282-292 (1998)
A.lmanishi 等人:“利用 S 和 CK 边缘 X 射线吸收精细结构对 Cu(111) 上吸附的烷硫醇进行结构研究”表面科学。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
金属表面分子吸着構造のX線吸収微細構造分光による研究
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批准号:04F02787
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.58万
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财政年份:2004
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负责人:太田 俊明
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依托单位:
低次元ナノ材料の合成,組織化,および物性評価
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批准号:03F00274
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.38万
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财政年份:2003
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负责人:太田 俊明
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依托单位:
低次元ナノ材料の合成、組織化、および物性評価
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批准号:03F03274
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.15万
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财政年份:2003
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负责人:太田 俊明
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依托单位:
金属表面吸着分子のX線吸収スペクトルの理論的研究
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批准号:02F00787
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.9万
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财政年份:2002
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负责人:太田 俊明
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依托单位:
放射光とSTMを用いたSi上有機薄膜の構造と電子状態の研究
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批准号:00F00309
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.26万
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财政年份:2001
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负责人:太田 俊明
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依托单位:
XAFSによる疑似的電極界面構造解析-銀単結晶上の塩素・水共吸着系
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批准号:11118215
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
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资助金额:$1.15万
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财政年份:1999
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负责人:太田 俊明
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依托单位:
良く制御された条件下での真空紫外光分解による薄膜形成初期過程の研究
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批准号:62470010
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
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资助金额:$4.16万
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财政年份:1987
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负责人:太田 俊明
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依托单位:
超軟X線励起による気体光電子スペクトルの測定およびその理論的解釈
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批准号:X00095----264139
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (D)
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资助金额:$0.25万
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财政年份:1977
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负责人:太田 俊明
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依托单位: