Behavior Analysis of Hydrogen-Induced Superabundant Vacancies in Electrodeposition of Metals and Its Application to Structural Control

金属电沉积过程中氢致过剩空位的行为分析及其在结构控制中的应用

基本信息

  • 批准号:
    26420743
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.66万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2014
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2014-04-01 至 2017-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(52)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
めっき膜中に共析した水素の挙動解析 ~水素誘起超多量空孔と構造変化~
镀膜中氢共析行为分析~氢致超量空位及结构变化~
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    山崎 貴昭;福室直樹;山本拓司;前田光治;八重真治;福室直樹
  • 通讯作者:
    福室直樹
鉄-炭素合金電析膜の水素共析に及ぼす浴組成の影響
熔池成分对铁碳合金镀层氢共析沉积的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    横山綾乃;萩原泰三;唐津晋也;福室直樹;八重真治;福室直樹,八重真治,深井 有;川崎真央,藤野萌子,福室直樹,八重真治,深井 有
  • 通讯作者:
    川崎真央,藤野萌子,福室直樹,八重真治,深井 有
電析時の静水圧が膜物性に及ぼす影響
电沉积过程中的静水压力对薄膜性能的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    山崎貴昭;福室直樹;山本拓司;前田光治;八重真治
  • 通讯作者:
    八重真治
めっきによる金属膜への水素の共析とその挙動
金属镀膜共沉积氢及其行为
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    八重真治;福室直樹
  • 通讯作者:
    福室直樹
Hydrogen-Induced Grain Growth in Electrodeposited Cu Films
电沉积铜膜中氢致晶粒生长
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Fukumuro Naoki其他文献

Effect of electroless Ni-P plating on rotary bending fatigue strength of A2017-T4 aluminum alloy
化学镀Ni-P对A2017-T4铝合金旋转弯曲疲劳强度的影响
  • DOI:
    10.2464/jilm.71.450
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shinno Ryohei;Hino Makoto;Kuwano Ryoichi;Monden Koji;Sato Masaaki;Oda Yukinori;Fukumuro Naoki;Yae Shinji;Horikawa Keitaro;Kanadani Teruto
  • 通讯作者:
    Kanadani Teruto
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通过表面改性提高铝合金的抗氢脆敏感性
Slow strain rate testing properties of high zinc Al-Zn-Mg-based alloys pre-compressive deformed with a high speed
高锌Al-Zn-Mg基合金高速预压缩变形的慢应变速率测试性能
Effects of hydrogen on the tensile properties of electroless Ni-P plated 6061-T6 aluminum alloys
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  • DOI:
    10.2464/jilm.71.201
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Kuwata Hideki;Tanigaki Kenichi;Hino Makoto;Fukumuro Naoki;Horikawa Keitaro
  • 通讯作者:
    Horikawa Keitaro
Fatigue property of electroless Ni-P plated A7075-T6511 alloy affected by plated film composition
镀膜成分对化学镀Ni-P A7075-T6511合金疲劳性能的影响
  • DOI:
    10.2464/jilm.71.534
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shinno Ryohei;Hino Makoto;Kuwano Ryoichi;Monden Koji;Sato Masaaki;Oda Yukinori;Fukumuro Naoki;Yae Shinji;Horikawa Keitaro;Kanadani Teruto
  • 通讯作者:
    Kanadani Teruto

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  • 资助金额:
    $ 2.66万
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