Development of fabrication low energy process for functional silica glass
Development of fabrication low energy process for functional silica glass
批准号:
26420756
负责人:
FUJINO SHIGERU
金额:
$3.08万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2014
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2014-04-01 至 2017-03-31
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シリカナノ粒子とポリビニルアルコールを用いた透明シリカガラス焼結体の作製
纳米二氧化硅和聚乙烯醇制备透明烧结石英玻璃
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[原翔平, 藤野茂]
通讯作者:
藤野茂
光重合法を用いたシリカメソポーラス体および透明シリカガラス焼結体の作製
光聚合法制备二氧化硅介孔材料和透明二氧化硅玻璃烧结材料
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
電子情報通信学会技術研究報告
影响因子:
--
作者:
[石坂直之, 藤野茂]
通讯作者:
藤野茂
常温にて成形可能なメソポーラスシリカ材料の作製とその特性に関する研究
常温成型介孔二氧化硅材料的制备及其性能研究
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[倉狩大樹, 原翔平, 藤野 茂]
通讯作者:
藤野 茂
SiO2-PVAナノコンポジットのメソポーラス構造を利用した希土類イオン ドープ焼結シリカガラス蛍光体の開発
利用SiO2-PVA纳米复合材料介孔结构开发稀土离子掺杂烧结石英玻璃荧光粉
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[池田弘, 村田貴広, 藤野茂]
通讯作者:
藤野茂
DOI:
10.1177/0021998315608430
发表时间:
2016-08-01
期刊:
JOURNAL OF COMPOSITE MATERIALS
影响因子:
2.9
作者:
[Ikeda, Hiroshi, Murata, Takahiro, Fujino, Shigeru]
通讯作者:
Fujino, Shigeru
Development of functional transparent silica glass using mesoporous structure
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批准号:24656388
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额:$2.41万
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财政年份:2012
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负责人:FUJINO SHIGERU
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依托单位:
海外基金