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Development of functional transparent silica glass using mesoporous structure

Development of functional transparent silica glass using mesoporous structure
利用介孔结构开发功能性透明石英玻璃
批准号:
24656388
负责人:
FUJINO SHIGERU
金额:
$2.41万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份:
2012
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2012-04-01 至 2014-03-31

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
人们对使用纳米颗粒在硅玻璃上喷墨打印可打印电子产品非常感兴趣。所制备的新型透明导电玻璃有利于其在光学传感器、光导、光学透镜、微芯片等领域的应用。我们演示了使用介孔二氧化硅和金属氧化物纳米颗粒在二氧化硅玻璃上制造导电图案。以聚乙烯醇作为粘结剂的用量和悬浮液的pH值为条件,确定了介孔二氧化硅的孔径分布。Ga2O3掺杂ZnO(镓掺杂氧化锌)和In2O3-SnO2 (ITO,铟锡氧化物)等纳米颗粒可以在硅介孔表面或内部印刷,并在1200度共烧结形成电路图案。在硅玻璃上印制的ITO经烧结后具有导电性。
英文摘要
There has been great interest in ink-jet printing on silica glass using nanoparticles for printable electronics. The novel transparent and electrical conductivity glass we prepared would be conducive to its use in optical sensor, light guide, optical lens, microchip etc. We demonstrated fabrication of electrically conductive pattern on silica glass using mesoporous silica and metal oxide nanoparticles. The pore size distribution of mesoporous silica was determined in terms of the poly(vinyl alcohol) amount as binder and the pH value in the suspension. The nanoparticles such as Ga2O3 doped ZnO(gallium-doped zinc oxide ) and In2O3-SnO2 (ITO, Indium tin oxide) could be printed on the surface or inside of the silica mesoporous and could form circuit pattern by co-sintering at 1200 degree. The ITO printed on silica glass has electrical conductivity after the sintering.
期刊论文(22)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Preparation of sintered silica glass using mesoporous SiO2/PVA composite
介孔SiO2/PVA复合材料制备烧结石英玻璃
DOI: --
发表时间: 2013
期刊:
影响因子: --
作者: [S.Fujino, T.Kida, H. Ikeda]
通讯作者: H. Ikeda
機械加工・成形性に優れたメソポーラスシリカとそれを用いた
具有优异加工性和成型性的介孔二氧化硅及其用途
DOI: --
发表时间: 2014
期刊:
影响因子: --
作者: [H.Ikeda, T.Murata, S.Fujino, 藤野 茂, H.Ikeda,T.Murata and S.Fujino, 藤野 茂, 藤野茂, 藤野茂]
通讯作者: 藤野茂
DOI: --
发表时间: 2012
期刊:
影响因子: --
作者: [S.Fujino, K.Nagano, H. Ikeda, T.Kajiwara]
通讯作者: T.Kajiwara
工業材料
工业材料
DOI: --
发表时间: 2010
期刊:
影响因子: --
作者: [佐藤千明, 他]
通讯作者: 他
共 15 条
    Development of fabrication low energy process for functional silica glass
    • 批准号:
      26420756
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $3.08万
    • 财政年份:
      2014
    • 负责人:
      FUJINO SHIGERU
    • 依托单位:
    海外基金