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高分子-金属膜構造における複合特性の解明と電子素子への応用

高分子-金属膜構造における複合特性の解明と電子素子への応用
阐明聚合物-金属薄膜结构的复合性能及其在电子设备中的应用
批准号:
56550218
负责人:
酒井 善雄
金额:
$0.83万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份:
1981
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1981 至 --
关键词:

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化合物半導体よりなるMIS構造トランジスタの基礎研究
  • 批准号:
    X00080----046069
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
  • 资助金额:
    $4.1万
  • 财政年份:
    1975
  • 负责人:
    酒井 善雄
  • 依托单位:
モレキュラビーム法による化合物半導体薄膜の形成とオプトエレクトロニクスヘの応用開発に関する研究
  • 批准号:
    X00080----846060
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
  • 资助金额:
    $5.25万
  • 财政年份:
    1973
  • 负责人:
    酒井 善雄
  • 依托单位:
転写法による半導体薄膜の生成とその応用
  • 批准号:
    X00120----785050
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
  • 资助金额:
    $1.4万
  • 财政年份:
    1972
  • 负责人:
    酒井 善雄
  • 依托单位:
光集積回路における能動素子および受動素子の開発に関する基礎的研究
  • 批准号:
    X46080-----58625
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
  • 资助金额:
    $0.92万
  • 财政年份:
    1971
  • 负责人:
    酒井 善雄
  • 依托单位: