课题基金 / 基金详情

極微構造のためのイオン注入技術開発

極微構造のためのイオン注入技術開発
超精细结构离子注入技术的发展
批准号：
57217038
负责人：
伊藤 糾次
金额：
$2.94万
依托单位：
Waseda University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Special Project Research
财政年份：
1982
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1982 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-57217038/
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極微構造デバイスのためのイオンプロセス技術の開発と評価
  • 批准号：
    59103013
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Special Project Research
  • 资助金额：
    $5.12万
  • 财政年份：
    1984
  • 负责人：
    伊藤 糾次
  • 依托单位：
    Waseda University
極微構造のためのイオン注入技術開発
  • 批准号：
    58209042
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Special Project Research
  • 资助金额：
    $1.34万
  • 财政年份：
    1983
  • 负责人：
    伊藤 糾次
  • 依托单位：
    Waseda University
シランの光分解法によるシリコン膜の成長過程に関する研究
  • 批准号：
    58460127
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
  • 资助金额：
    $4.29万
  • 财政年份：
    1983
  • 负责人：
    伊藤 糾次
  • 依托单位：
    Waseda University
シランの放電分解によるシリコン膜の成長過程の研究
  • 批准号：
    X00080----446056
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
  • 资助金额：
    $4.16万
  • 财政年份：
    1979
  • 负责人：
    伊藤 糾次
  • 依托单位：
    Waseda University