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高分子極薄膜の作成とその電気物性の解明

高分子極薄膜の作成とその電気物性の解明
超薄聚合物薄膜的制备及其电性能的阐明
批准号:
57550192
负责人:
水谷 照吉
金额:
$0.77万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份:
1982
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1982 至 --
关键词:

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酸化亜鉛バリスタの課電劣化機構
  • 批准号:
    61550211
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $1.28万
  • 财政年份:
    1986
  • 负责人:
    水谷 照吉
  • 依托单位:
光 CVD 法による有機高分子薄膜作成法の確立
  • 批准号:
    60550229
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $1.22万
  • 财政年份:
    1985
  • 负责人:
    水谷 照吉
  • 依托单位:
耐熱性有機高分子薄膜のトラップ準位の解明とその制御法の確立
  • 批准号:
    59550215
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $0.96万
  • 财政年份:
    1984
  • 负责人:
    水谷 照吉
  • 依托单位:
高分子薄膜の圧電・焦電性と空間電荷
  • 批准号:
    56550213
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $0.64万
  • 财政年份:
    1981
  • 负责人:
    水谷 照吉
  • 依托单位: