酸化亜鉛バリスタの課電劣化機構
酸化亜鉛バリスタの課電劣化機構
批准号:
61550211
负责人:
水谷 照吉
金额:
$1.28万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份:
1986
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1986 至 --
中文摘要
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
本研究では、ZnOセラミックバリスタを単純化したモデル系(ZnO-【Bi_2】【O_3】薄膜バリスタ)を作成し、その導電機構および課電劣化機構を明らかにするとともに、実用セラミックバリスタの導電特性および劣化機構について検討した。以下、本研究で得られた主な成果を列記する。1.実用ZnOバリスタの電流-電圧特性を調べ、非直線的な電流急増の挙動を実験的に明らかにした。また、直流課電による劣化現象には極性効果が存在することを示した。2.直流高電界を印加したZnOバリスタが330℃付近に粒間層中の空間電荷に起因するTSCピークを示すことを明らかにした。また、この空間電荷が課電劣化と密接に関連していることを指摘た。3.RFスパッタ法により、ZnO-【Bi_2】【O_3】二層薄膜バリスタ(ZnOバリスタの単純化モデル系)を作成するための条件と電気特性との関係を明らかにした。4.この薄膜バリスタの電流-電圧特性も著るしい非直線性を示し、特に逆方向では非直線性を示すα値(α=△LnJ/△LnV)は60〜90の値を示し、ZnOセラミックバリスタと同等以上の特性を有することを明らかにした。5.薄膜バリスタの課電劣化を調べ、その原因が界面での空間電荷の蓄積によることを示した。6.薄膜バリスタの電流は顕著な湿度依存性を示し、湿度センサとしても有望であることを明らかにした。本研究により、ZnOバリスタの課電劣化の機構が明らかにされたので、今後はこれに対する対策を検討する必要がある。
期刊论文(2)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Y.Suzuoki;A´.Ohki;T.Mizutani;M.Ieda: J.Appl.Phys.D Appl.Phys.20. (1987)
Y.Suzuoki;A´.Ohki;T.Mizutani;M.Ieda:J.Appl.Phys.D Appl.Phys.20(1987)。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Y.Suzuoki;A.Ohki;T.Mizutani;M.Ieda: J.Phys.D Appl.Phys.20. (1987)
Y.Suzuoki;A.Ohki;T.Mizutani;M.Ieda:J.Phys.D Appl.Phys.20。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
光 CVD 法による有機高分子薄膜作成法の確立
-
批准号:60550229
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
-
资助金额:$1.22万
-
财政年份:1985
-
负责人:水谷 照吉
-
依托单位:
耐熱性有機高分子薄膜のトラップ準位の解明とその制御法の確立
-
批准号:59550215
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
-
资助金额:$0.96万
-
财政年份:1984
-
负责人:水谷 照吉
-
依托单位:
高分子極薄膜の作成とその電気物性の解明
-
批准号:57550192
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
-
资助金额:$0.77万
-
财政年份:1982
-
负责人:水谷 照吉
-
依托单位:
高分子薄膜の圧電・焦電性と空間電荷
-
批准号:56550213
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
-
资助金额:$0.64万
-
财政年份:1981
-
负责人:水谷 照吉
-
依托单位:
気相成長高分子薄膜中のキャリアトラップの制御に関する研究
-
批准号:X00090----555126
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
-
资助金额:$1.34万
-
财政年份:1980
-
负责人:水谷 照吉
-
依托单位:
高分子薄膜の低温気相成長と電気物性
-
批准号:X00090----455125
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
-
资助金额:$1.28万
-
财政年份:1979
-
负责人:水谷 照吉
-
依托单位:
高分子絶縁材料中へのキヤリア注入と空間電荷
-
批准号:X00095----365101
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (D)
-
资助金额:$0.31万
-
财政年份:1978
-
负责人:水谷 照吉
-
依托单位:
高分子絶縁材料中のキャリア移動度とトラップ中心に関する研究
-
批准号:X00210----175147
-
项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
-
资助金额:$0.24万
-
财政年份:1976
-
负责人:水谷 照吉
-
依托单位:
高分子絶縁体の電荷担体の移動度測定に関する研究
-
批准号:X00210----875139
-
项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
-
资助金额:$0.2万
-
财政年份:1973
-
负责人:水谷 照吉
-
依托单位:
高分子の光電導特性
-
批准号:X46210------5471
-
项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
-
资助金额:$0.13万
-
财政年份:1971
-
负责人:水谷 照吉
-
依托单位:
海外基金