Fluorination of Ceramic Fiber with Chlorotrifluoromethane, especially <CCl_3F>

用三氟氯甲烷特别是<CCl_3F>氟化陶瓷纤维

基本信息

  • 批准号:
    60550562
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.22万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    1985
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1985 至 1986
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

In order to obtain some information regarding the preparation of fluorinated ceramics, <SiO_2> powder calcinated at high temperatures(1000-1500゜C) was treated with gaseous chlorofluoromethanes or <CF_4> at 450-550゜C in a closed circulation system. In addition, <CF_4> -plasma treatment was applied to the same <SiO_2> sample to perform an intensive surface fluorination.The treatments at 550゜C showed the order of the fluorination activity as following, <CCl_3F> (4.2) > <CCl_2F_2> (2.5) > <CClF_3> (0.3) > <CF_4> (0). (Here, the numbers in parentheses designate F content(%) in the surface layer of the treated <SiO_2> sample.) The F content in the surface layer of the <CCl_3F> -treated <SiO_2> increased linearly from 1.5 to 4.2% with an increase in the treatment temperature. Whereas, <SiF_4> -formation became remarkable at temperatures higher than 600゜C. The surface OH groups completely disappeared and Si-F bond appeared after the <CCl_3F> -treatment at 500゜C. The Cl component was not found for all the flon-treated sample.The adsorptive activities of <SiO_2> for water and hexane decreased with the <CCl_3F> -treatment, suggesting that the <SiO_2> surface became more hydro- and lipo-phobic with the treatment.The <CF_4> -plasma treatment was more effective for the more intensive fluorination of <SiO_2> surface. Thus, an atomic ratio of the treated <SiO_2> attained about 0.75 after the <CF_4> (0.5 Torr)-plasma treatment for 10 min.
为了获得有关氟化陶瓷制备的一些信息,<SiO_2>在高温(1000-1500 ℃)下煅烧的粉末用气态氯氟甲烷或<CF_4>在450-550 ℃下在封闭循环系统中处理。此外,<CF_4>还对同一样品进行了等离子体处理<SiO_2>,以进行强烈的表面钝化,在550 ℃下处理的钝化活性顺序为:<CCl_3F>(4.2)&gt;<CCl_2F_2>(2.5)&gt;<CClF_3>(0.3)&gt;<CF_4>(0)。(Here括号中的数字表示经处理的样品的表面层中的F含量(%)<SiO_2>。随着处理温度的升高,表面层中的F含量<CCl_3F><SiO_2>从1.5%线性增加到4.2%。而<SiF_4>在高于600 ℃的温度下,-的形成变得显著。经过500 ° C处理后,表面OH基团完全消失,出现Si-F键<CCl_3F>。经离子处理的样品中均未发现Cl组分,<SiO_2>对水和正己烷的吸附活性随<CCl_3F>离子处理的进行而降低,表明<SiO_2>表面变得更加疏水和疏<CF_4>脂,离子处理对表面更强的疏水化更有效<SiO_2>.因此,<SiO_2>在<CF_4>(0.5Torr)等离子体处理10分钟后,处理的原子比达到约0.75。

项目成果

期刊论文数量(4)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Susumu OKAZAKI: Centenary of The Discovery of Fluorine,International Synposium.Abstract 【I_3】. 88 (1986)
Susumu OKAZAKI:氟发现一百周年,国际研讨会。摘要[I_3](1986)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Susumu OKAZAKI: "Surface Treatment of <SiO_2> with Various Chlorofluoromethanes and <CF_4> " Centenary of The Discovery of Fluorine, International synposium(Paris), Abstract <I_3> . 88 (1986)
Susumu OKAZAKI:“用各种氯氟甲烷和<CF_4>对<SiO_2>进行表面处理”,氟发现百年纪念,国际研讨会(巴黎),摘要<I_3>。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Susumu OKAZAKI: Bulletin of Chemical Soceity of Japan.
Susumu OKAZAKI:日本化学会通报。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Susumu OKAZAKI: "Vapor Phase Fluorination of <SiO_2> Surface with Chlorofluoromethanes and <CF_4> " Bulletin of Chemical Society of Japan.
Susumu OKAZAKI:“用氯氟甲烷和<CF_4>对<SiO_2>表面进行气相氟化”日本化学会会刊。
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  • 通讯作者:
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  • 通讯作者:
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