Optimization and shaping of ion beam density profiles for the high-precision surface processing

用于高精度表面加工的离子束密度分布的优化和整形

• 批准号: 5213158
• 负责人: Privatdozent Dr. Eberhard Hartmann (†)
• 金额: --
• 依托单位: Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V. (IOM)
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Units
• 财政年份: 1999
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 1998-12-31 至 2005-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5213158?language=en
• 关键词: Optimization; shaping; ion; beam; density

Ionenstrahlgestützte Formgebungs-, Sturkturierungs- und Abscheideprozesse werden zunehmend in den Nanotechnologien eingesetzt. In einem unteren Energiebereich (100-1000 eV) sind Breitstrahlionenquellen mit gezielt einstellbaren Ionenstromdichteprofilen zu entwickeln. Dadurch werden topologieangepasste Abtragungsfunktionen zur Verfügung gestellt, die optische Oberflächengüten im mittleren (sub-mm-) und langwelligen (mm-) Ortswellenlängenbereich beträchtlich (rms < 0.4nm) verbessern können. In diesem Vorhaben kann auf eine im Institut für Oberflächenmodifizierung entwickelte Methodik zurückgegriffen werden, in der die komplexen, gleichzeitig ablaufenden Wechselwirkungen nach dem Muster der fraktionellen Schritte in konsekutive Prozesse gebrochen werden. Insbesondere sind inhomogene Plasmadichteprofile im Entladungsraum zu berücksichtigen, die durch Vergleich gerechneter und gemessener Kennlinien von Gitterstrom und Extraktionsspannung gewonnen und im ausgewählten Einzelfall direkt mit der optischen Emmissionsspektroskopie vermessen werden. Die geringen Plasmadichten am Rand stellen eine Vorstellung in Frage, wonach die einzelnen Extraktionskanäle voneinander unabhängig seien. Um die Einzelstrahlbehandlung (beamlets) zu retten, werden die anisotropen Umgebungseffekte in sphärischer Näherung einbezogen. Zu einfach und mehrfach positiv geladenen Ionen sollen auch negative Ionen betrachtet werden, deren Behandlungen an die externe methodische Entwicklung der virtuellen Kathode gebunden ist.Die jeweils sehr "dichte" Behandlung erzeugt ein Verständnis der Ionenquellen, mit dessen Hilfe Komplikationen wie Plasmainhomogenität und Nachbarloch-Wechselwirkung letztendlich sogar zur gezielten Formung der Breitstrahl-Ionendichteprofile genutzt werden können. Neben dem Fortschritt in der ultrapräzisen Oberflächenbearbeitung sind Teilergebnisse, insbesondere die Erfassung der Plasmainhomogenität im Entladungsraum, auch für Ionen-Korrekturtriebwerke (thruster) von Bedeutung und stärken somit die nationale Kompetenz im Felde der Raumfahrtforschung.

离子束成型、固化和吸收韦尔登工艺在纳米技术中得到应用。在一个能量范围（100-1000 eV）的电子束辐射中，离子流的特性曲线被设置成一个小的曲线。Daddy韦尔登拓扑结构Abtragungsfunktionen zur Verfügung gestellt，die optische Oberflächengüten im mittleren（sub-mm-）und langwelligen（mm-）Ortswellenlängenbereich beträchtlich（rms < 0.4nm）verbessern können.在这种情况下，可以在高等教育改良循道宗韦尔登研究所中进行，在复杂的情况下，在韦尔登的一致性过程中，可以在集合fraktionellen Schritte之后进行快速的修正。由于Gitterstrom和Extraktionsspannung产生的Vergleich和gemessener Kennlinien以及在光发射光谱韦尔登中的直接Einzelfall，在Entladungsraum中形成了不均匀的等离子体分布。在兰德的引导下，等离子体在法国形成一个漩涡，这样一个额外的能量就不会被吸收。Um die Einzelstrahlbehandlung（beamlets）zu retten，韦尔登die anisotropen Umgebungseffekte in the Einärischer Näherung einbezogen.正性和负性电离层也可形成韦尔登，这需要一种有效的体外电离层探测方法。宝石的正性和负性电离层探测方法是电离层探测的一种有效方法，它与等离子体均质和Nachbarloch-Wechselenkung等离子体探测方法相结合，可以形成韦尔登的正性电离层。Neben dem Fortschritt in der ultraprazisen Oberflächenbearbeitung sind Teilergebnisse，insbesondere die Erfassung der Plasmainhomogenität im Entladungsraum，auch für Ionen-Korrekturtriebwerke（thruster）von Bedeutung und stärken somit die nationale Kompetenz im Felde der Raumfahrtforschung.