多層膜超伝導体の上部臨界磁場に関する研究

多层超导体上临界磁场研究

基本信息

批准号：
61550476
负责人：
小尾俶久
金额：
$ 1.15万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份：
1986
资助国家：
日本
起止时间：
1986 至无数据
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-61550476/
关键词：
多層膜超伝導体スパッタ上部臨界磁場ニオブチタン合金

项目摘要

本研究は多層膜超伝導体の上部臨界磁場の挙動を調べ、更に現在最も実用に供されているNbTi合金極細多心線を凌ぐものが得られるかを調べる事にある。我々が以前より研究しているNb/Ti多層膜の研究により多層膜ではbulkのものより上部臨界磁場(【H_(C2)】)を高める事が見出され、この結果に基いて研究を推し進めている所である。具体的な継過、成果を以下に示す。1.NbTiを基とした多層膜の作製………本所にあるマルチターゲットスパッタ装置を用いてNbTi/Ti、NbTi/Nb多層膜をNbTiの組成比を【Nb_(65)】【Ti_(35)】、【Nb_(28)】【Ti_(72)】と変え、更に積層周期(λ)を50〜1600Åに変えて作製した。これらの全試料に就いてX線により構造を調べた。2.自動制御システムよる電気抵抗測定装置の組立と超伝導臨界温度(Tc)の測定………上記作製した数十個の試料に就て超伝導体としての基本的な物性量である臨界温度を先ず測定する必要があり、試料数の多い事と測定の省力化のため試料の抵抗を同時に4個測定できる抵抗測定装置を組み立てそれを設備備品として計上した自動制御システム(コンピューター、ディスプレイ、プロッター、プリンター、デジタルマルチメータ)を用いて自動化した。これにより転移点の入依存性を測る事が出来た。3.上部臨界磁場の測定………上記2.の抵抗測定によって選び出した10〜20数個の試料に就て本所低温センター超伝導マグネットを用いて【H_(C2)】の測定を行った。この測定は磁場制御が多段階にあるため現在手動で行ってるが将来上記コンピューターシステムを用い自動化する計画を立てている所である。又データ解析にはコンピュータシステムを用いた。4.上記得られたデータを解析し理論との比較を行った。また目的の一つである臨界磁場を上げる事に関してはNbTi/Ti系の或る積層周期のものについてbulkより高いものの得られる可能性を見出し、今後更に組成、入、スパッタ条件を変えて研究を続けていくつもりである。

这项研究将研究多层超导体的上临界领域的行为，并研究是否有可能获得超过当前最实用的NBTI合金超细多核线的东西。我们一直在研究我们已经研究了一段时间的NB/Ti多层膜，并且已经发现，在多层膜中，上层临界磁场（[H_（C2）]）的上层膜比散装膜相比增加了，并且我们目前正在基于这些结果促进研究。具体的继承和结果如下所示。 1。制备基于NBTI的多层胶片...使用我们办公室中的多目标溅射装置，NBTI/Ti和NBTI/NB多层膜是通过更改NBTI与[NB_（65）]，[TI_（35），[TI_（35）]，[NB_（28）和[ti nb_（65）]的组成比例来制造的。（λ）至50-1600Å。所有这些样品都是通过X射线构成的。 2。组装电阻测量设备并使用自动控制系统测量超导临界温度（TC）...对于上面产生的数十个样品，必须先测量临界温度，这是超导体的基本物理特性。为了在测量中节省样品和人工的数量，使用自动控制系统（计算机，显示器，绘图仪，打印机，数字万用表）组装并自动化了一个可以同时测量四个标本的电阻测量设备，并将其记录为设备供应。这使我们能够测量过渡点的进入依赖性。 3。上临界磁场的测量... [H_（C2）]使用Honjo低温中心超导磁体测量。由于多阶段磁场控制，目前正在手动进行此测量，但是正在制定计划以将来自动化上述计算机系统。计算机系统也用于数据分析。 4。分析上述数据并将其与理论进行了比较。此外，提高临界磁场的目的之一是，我们发现可以以高于散装的高度获得某些基于NBTI/Ti的层压周期的可能性，并且我们打算通过改变组成，输入和溅射条件来继续进行研究。