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スパッタ法によるホイスラー合金系人工格子多層膜の作成とその基板温度依存性
溅射法制备Heusler合金基人工晶格多层薄膜及其基底温度依赖性
基本信息
- 批准号：62740163
- 负责人：
- 金额：$ 0.58万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
- 财政年份：1987
- 资助国家：日本
- 起止时间：1987 至 无数据
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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- 影响因子：0
- 作者：
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- 影响因子：0
- 作者：
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高梨 弘毅
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