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Photo Polymer Patterns for Metal Mold.

Photo Polymer Patterns for Metal Mold.
用于金属模具的光聚合物模型。
批准号：
63550513
负责人：
OTANI Toshikatsu
金额：
$1.22万
依托单位：
Nihon University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份：
1988
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1988 至 1990
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-63550513/
关键词：
Light induced ManufacturingPhoto PolymerU. V. Ray ExposureMultilayred PatternsSecondary NegativesThickness of Cured LayerResin Temperature紫外線照度硬化反応熱温度上昇ピーク

项目摘要

项目成果

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Application of light induced manufacturing for patterns of metal mold were investigated. Liquid photo polymer is cured by the exposure of ultra violet ray through negative films. Cured photo polymer layer is lowered by d and is covered by liquid photo polymer as shown in Fig. 1. Then the liquid photopolymer is cured by the exposure of u. v. ray through negative film.Multilayered pattern is obtained by means of these exposures. Negative films are able to be changed for each exposure. In order to obtain negative films, printing by personal computer was discussed.
期刊论文(11)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
大谷 利勝: "感性樹脂模型による鋳造金型" 日本機械学会講習会 「金型の製作と加工技術」. No.890ー30. 7-11 (1989)
Toshikatsu Otani：“使用敏感树脂模型的铸造模具”日本机械工程师学会研讨会“模具生产和加工技术”第890-30号（1989）。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
大谷 利勝: "鋳造用模型に用いられる光造形技術" 合成樹脂. 36,No.10. 15-19 (1990)
Toshikatsu Otani：“铸造模型中使用的立体光刻技术”《合成树脂》36，第 10. 15-19 (1990)。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
大谷利勝、星野和義: "光造形技術の鋳造用模型への適用" 素形材. 31,No.12. 7-10 (1990)
Toshikatsu Otani、Kazuyoshi Hoshino：“光学建模技术在铸造模型中的应用”Sokeizai 31，No. 12. 7-10 (1990)。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
Toshikatsu OTANI: "Light Induced Manufacturing for Foundry Patterns" The Plastics. Vol. 36, No. 10. 15-19 (1990)
Toshikatsu OTANI：“铸造模型的光诱导制造”塑料。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
共 10 条
    Manufacture of Metal Castings by Photofabricated Pattern
    • 批准号：
      14550728
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $1.86万
    • 财政年份：
      2002
    • 负责人：
      OTANI Toshikatsu
    • 依托单位：
      Nihon University
    Secondary Cure of Laminated Patterns by Photofabrication
    • 批准号：
      07650153
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $1.54万
    • 财政年份：
      1995
    • 负责人：
      OTANI Toshikatsu
    • 依托单位：
      NIHON University
    海外基金