多孔質シリコンの金属シリサイド化と埋め込み電極への応用
多孔質シリコンの金属シリサイド化と埋め込み電極への応用
多孔硅金属硅化物及其在埋地电极中的应用
批准号：
63750289
负责人：
伊藤 利道
金额：
$0.58万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1988
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1988 至 --
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ナノサイズ半導体微粒子表面の金属によるパッシベーション効果
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批准号：08875007
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项目类别：Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额：$0.0万
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财政年份：1996
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负责人：伊藤 利道
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依托单位：