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真空紫外光を用いた半導体表面清浄化過程のその場観察による解明
通过原位观察阐明使用真空紫外光的半导体表面清洁工艺
基本信息
- 批准号：63750288
- 负责人：
- 金额：$ 0.58万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
- 财政年份：1988
- 资助国家：日本
- 起止时间：1988 至 无数据
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
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- 影响因子：0
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- 发表时间：
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- 影响因子：0
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齋藤 洋司
齋藤 洋司的其他文献
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