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対向ターゲット式高速スパッタ法による高飽和磁化人工格子軟磁性薄膜の開発
面向靶高速溅射法开发高饱和磁化人工晶格软磁薄膜
基本信息
- 批准号：63750302
- 负责人：
- 金额：$ 0.58万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
- 财政年份：1988
- 资助国家：日本
- 起止时间：1988 至 无数据
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
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星 陽一
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