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対向ターゲット式スパッタ法によるミリ波帯素子用の高配向バリウムフェライト膜の作製
面向靶溅射法制备毫米波器件用高取向钡铁氧体薄膜
基本信息
- 批准号：58750228
- 负责人：
- 金额：$ 0.64万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
- 财政年份：1983
- 资助国家：日本
- 起止时间：1983 至 无数据
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
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星 陽一
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