Nanotribology of coating on silicon using multiscale atomic-continuum modelling

使用多尺度原子连续介质模型研究硅涂层的纳米摩擦学

• 批准号: DP0452621
• 负责人: Dr Wun Chet Cheong
• 金额: $ 11.32万
• 依托单位: The University of Sydney
• 依托单位国家: 澳大利亚
• 项目类别: Discovery Projects
• 财政年份: 2004
• 资助国家: 澳大利亚
• 起止时间: 2004-01-19 至 2006-10-21
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://dataportal.arc.gov.au/RGS/Web/Grants/DP0452621
• 关键词: Nanotribology; coating; silicon; using; multiscale

Nanotribology plays a vital role in the development of nanomaterials, nanotechnology and information technology. The current project aims to predict the mechanisms involved in the nanotribology of diamond coating on silicon. In addition, the project will integrate the tribological mechanisms involved on the atomic scale with mechanisms on the continuum scale using an innovative model combining molecular dynamics, discrete elements method and finite elements analysis. This will provide a holistic understanding of tribology.

纳米摩擦学在纳米材料、纳米技术和信息技术的发展中起着至关重要的作用。 目前的项目旨在预测金刚石涂层在硅上的纳米摩擦学机制。 此外，该项目将使用结合分子动力学、离散元方法和有限元分析的创新模型，将原子尺度上的摩擦学机制与连续尺度上的机制相结合。 这将提供对摩擦学的全面理解。