反応性スパッタ法を用いる希土類系合金薄膜の作製とその水素吸蔵特性

反应溅射法制备稀土合金薄膜及其储氢性能

基本信息

  • 批准号:
    04750693
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 0.58万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 财政年份:
    1992
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1992 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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  • 通讯作者:
    坂口 裕樹

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  • 发表时间:
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    $ 0.58万
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