プラズマCVDによる複合酸化物薄膜の合成と成膜機構の解析
プラズマCVDによる複合酸化物薄膜の合成と成膜機構の解析
等离子体CVD复合氧化物薄膜的合成及成膜机理分析
批准号：
04750792
负责人：
秋山 泰伸
金额：
$0.58万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1992
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1992 至 --
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会议论文
イオン、ラジカルの物性値の高精度推算
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批准号：12750667
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项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额：$1.41万
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财政年份：2000
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负责人：秋山 泰伸
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依托单位：
光CVDによる酸化物薄膜の常温合成プロセスの反応解析
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批准号：08750895
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项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额：$0.64万
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财政年份：1996
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负责人：秋山 泰伸
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依托单位：