シリカガラスおよびエルビウムドープシリカガラスの真空紫外域における光学特性

石英玻璃和掺铒石英玻璃在真空紫外区的光学特性

• 批准号: 05750295
• 负责人: 西川 宏之
• 金额: $ 0.58万
• 依托单位: Tokyo Metropolitan University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
• 财政年份: 1993
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1993 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-05750295/
• 关键词: シリカガラス; エルビウム; 真空紫外域; 光学特性; エキシマレーザ; シンクロトロン放射光; 点欠陥; 電子スピン共鳴

(1)6.4eVおよび7.9eVエキシマレーザを照射したシリカガラスにおける点欠陥の生成および消滅を電子スピン共鳴および真空紫外分光測定により観測した。Si-Si結合およびSi-H結合を含むシリカガラスにおいては、水素を含有しないシリカガラスと比較して1-2桁高い濃度のSiダングリングボンドの生成を確認した。また、レーザ照射によるSiダングリングボンド生成の動力学を解析した。さらにSi-HおよびSi-OH結合の濃度が欠陥の生成および消滅の動力学に及ぼす影響を調べ、微視的な欠陥生成モデルを確立することが出来た。(The 1993 PAC RIM Meeting:“R.A.Weeks International Symposium on Science and Technology of SiO_2 Related Materials"にて報告。)(2)シリカガラス中の酸素欠乏欠陥のキャラクタリゼーションを行うため、シンクロトン放射光(シングルバンチ運転)を利用して、時間相関単-光子計数法による真空紫外域(>6eV)励起下でのナノ秒・サブナノ秒時間分解蛍光測定を行った。真空紫外励起下で酸素欠乏欠陥の2つの配置間でのinterconversionを初めて観測することが出来た。(第54回応用物理学会学術講演会および電気学会研究会誘電・絶縁材料研究会の計2件の報告を行った。)その他、エルビウムドープシリカガラスのgamma線誘起損失の解析、ゲルマニウムドープシリカガラスのエキシマレーザ誘起ルミネッセンスの観測、ゾル-ゲル法シルカガラスの光学特性に及ぼすNa不純物の影響に関して、第54回応用物理学会学術講演会にて3件の報告をすることが出来た。

(1) 6.4eV~7.9eV~6.4eV~7.9eV~6.4eV~6.4eV~7.9eV~7. Si-Si bond and Si-H bond contain different concentrations of Si and H2O. Analysis of the kinetics of the formation of silicon dioxide under irradiation In addition, the Si-H and Si-OH binding concentrations are determined by the kinetics and influence of the formation and elimination of the impurity. The Weishi app is also established. (The 1993 PAC RIM Meeting: "R.A. Weeks International Symposium on Science and Technology of SiO_2 Related Materials" (2)The time dependent photon counting method was used to determine the time-resolved fluorescence under excitation in the vacuum ultraviolet region (> 6 eV). Under vacuum ultraviolet excitation, the interconversion between the two configurations of acid deficiency and deficiency is detected. (54th Session of the Applied Physics Society Academic Lecture Meeting and the Electrical Engineering Society Research Meeting conducted two reports on the project of the Insulation Materials Research Meeting) The analysis of gamma-line induced losses, the measurement of gamma-line induced losses, the optical properties of gamma-line induced losses, and the effects of Na impurities on the optical properties of gamma-line induced losses were presented. Three reports were presented at the 54th Symposium of the Society for Applied Physics.

项目成果

H.Nishikawa and Y.Ohki: " Effect of hydrogen on the formation of photoinduced E'centers in silica" Proceedings of The 1993 PAC RIM Meeting:“R.A.Weeks International Symposium on Science and Technology of SiO_2 Related Materials".178 (1993)

H.Nishikawa 和 Y.Ohki：“氢对二氧化硅中光诱导 E中心形成的影响”1993 年 PAC RIM 会议记录：“R.A.Weeks 国际 SiO_2 相关材料科学与技术研讨会”.178 (1993)

西川宏之、渡辺英紀、伊藤大佐、大木義路: "ゾル-ゲル法シリカガラスの光学特性に及ぼすNa不純物の影響" 第54回応用物理学会学術講演会 27PL/II-10. 2. 806 (1993)

Hiroyuki Nishikawa、Hideki Watanabe、Col. Ito、Yoshimichi Oki：“Na 杂质对溶胶-凝胶二氧化硅玻璃光学性能的影响”第 54 届日本应用物理学会年会 27PL/II-10 (1993) ) )

小山武志、道口信行、大木義路、西川宏之、日馬康雄、瀬口忠雄: "エルビウムドープ光ファイバーにおけるgamma線誘起損失の解析" 電気学会研究会 誘電・絶縁材料研究会資料DE1-93-165. 11-19 (1993)

Takeshi Koyama、Nobuyuki Michiguchi、Yoshimichi Oki、Hiroyuki Nishikawa、Yasuo Haruma、Tadao Seguchi：“掺铒光纤中伽马射线引起的损耗分析”IEEJ 研究组介电和绝缘材料研究组材料 DE1-93-165。 -19 (1993)

藤巻真、西川宏之、大木義路: "Geドープシリカガラスのエキシマレーザ誘起ルミネッセンス" 第54回応用物理学会学術講演会 27PL/II-2. 2. 804 (1993)

Makoto Fujimaki、Hiroyuki Nishikawa、Yoshimichi Oki：“掺锗石英玻璃的准分子激光诱导发光”日本应用物理学会第 54 届年会 27PL/II-2 (1993)。

西川宏之、渡辺英紀、伊藤大佐、大木義路: "シリカガラス中の4.3-eV発光帯の寿命測定" 第54回応用物理学会学術講演会 27PL/II-8. 2. 806 (1993)

Hiroyuki Nishikawa、Hideki Watanabe、Col. Ito、Yoshimichi Oki：“石英玻璃中 4.3-eV 发射带寿命的测量”第 54 届日本应用物理学会年会 27PL/II-8（1993 年） ）