LSIアルミメタライゼーション技術へのハフニウム膜の適用に関する基礎的研究
LSIアルミメタライゼーション技術へのハフニウム膜の適用に関する基礎的研究
铪膜在LSI铝金属化技术中应用的基础研究
批准号：
98J01327
负责人：
新海 聡子
金额：
$1.73万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
1998
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1998 至 2000
中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
酸化ガリウムの表面および界面処理技術の研究
-
批准号：22K04047
-
项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
-
资助金额：$2.66万
-
财政年份：2022
-
负责人：新海 聡子
-
依托单位：
銅単結晶配線技術の実現による次世代ULSIの高性能化に関する研究
-
批准号：01J06912
-
项目类别：Grant-in-Aid for JSPS Fellows
-
资助金额：$2.3万
-
财政年份：2001
-
负责人：新海 聡子
-
依托单位：