複合メゾスコピック構造を有するエネルギー変換材料の分光学的研究
複合メゾスコピック構造を有するエネルギー変換材料の分光学的研究
批准号:
11118240
负责人:
作花 哲夫
金额:
$0.96万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
财政年份:
1999
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1999 至 --
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半導体と金属の複合系では、そのメゾスコピックな形態制御により光電極材料としてのエネルギー変換効率を向上させることが可能である。本研究では微細構造によるラマンスペクトルへの影響に着目することとし、鏡面研摩のシリコンウエハーに銀を置換めっきした表面について、フッ酸処理やその後の熱酸化による構造変化がラマンスペクトルに及ぼす影響について調べた。鏡面研摩されたシリコンウエハーを硫酸銀水溶液に浸漬するとナノメータサイズで二酸化シリコン上に銀が析出した構造が形成される。この試料のラマン散乱スペクトルには、大きなバックグラウンドとともに950cm^<-1>付近にピークが見られた。この付近には通常シリコンの二フォノン散乱による小さなピークが見られるが、シリコンのバルクフォノンの振動に起因する520cm^<-1>のフォノンピークと比較して異常に大きく現れることから、シリコン以外に帰属されるものと考えられる。この試料をフッ酸水溶液で処理する前後のラマン、赤外スペクトル測定およびAFM観察を行った。赤外スペクトルおよび原子間力顕微鏡観察の結果から、銀を置換めっきした試料ではシリコンの酸化物が生成し、100nm程度から数nm以下までのサイズ分布を持つ丸い粒子状の銀が析出していること、フッ酸処理により酸化物は消失し、析出している銀の形状も大きく変わること、および、その後の熱処理でシリコンが再び酸化されることがわかる。ラマンスペクトルに着目すると、フッ酸処理前に見られた大きなバックグラウンドと950cm^<-1>付近のピークはフッ酸処理により消失すること、さらに、その後空気酸化してもこのスペクトルは復活しないことがわかる。このことはラマン散乱スペクトルが析出した金属や生成した酸化物の微細形態に敏感であることを示している。
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Y. H. Ogata: "Crystallinity of p-type porous silicon and its change with heat-treatment"Electrochemistry. 67・12. 1203-1205 (1999)
Y. H. Ogata:“p型多孔硅的结晶度及其随热处理的变化”电化学67・1205(1999)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
T. Sakka: "Raman scattering of Metal-deposited porous silicond"Journal of Porous Materials. 7・1-3. 397-4000 (2000)
T. Sakka:“金属沉积多孔硅的拉曼散射”多孔材料杂志7・1-397-4000(2000)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
T. Tsuboi: "Spin-lattice relaxation of ^<29>Si near porous silicon surface"Applied Surface Science. 153・4. 268-274 (2000)
T. Tsuboi:“多孔硅表面附近的^<29>Si的自旋晶格弛豫”应用表面科学153・4(2000)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Y. H. Ogata: "Oxidation of porous silicon in dry and wet environments under mild temperature conditions"Journal of Porous Materials. 7・1-3. 63-66 (2000)
Y. H. Ogata:“温和温度条件下干燥和潮湿环境中多孔硅的氧化”多孔材料杂志7·1-66(2000)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
T. Tsuboi: "Effect of dopant type on immersion plating into porous silicon layer"Applied Surface Science. 147・1-4. 6-13 (1999)
T. Tsuboi:“掺杂剂类型对多孔硅层浸镀的影响”《应用表面科学》147・1-4(1999)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 8 条
プラズマ水溶液界面における非平衡電気化学的制御のための界面電位差測定法の開発
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批准号:23K17931
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
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资助金额:$4.08万
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财政年份:2023
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负责人:作花 哲夫
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依托单位:
長いナノ秒レーザーによるアブレーション発光を用いた液中固体表面のその場元素分析
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批准号:18655031
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.3万
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财政年份:2006
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负责人:作花 哲夫
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依托单位:
光ビート法を用いたブリルアン散乱分光による分子振動緩和の解析
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批准号:09750904
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.09万
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财政年份:1997
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负责人:作花 哲夫
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依托单位:
赤外多光子解離反応の熱レンズ法による速度論的解析
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批准号:08750952
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1996
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负责人:作花 哲夫
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依托单位:
レーザーアブレーションの初期過程
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批准号:07750927
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1995
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负责人:作花 哲夫
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依托单位:
材料表面層へのレーザー光照射による化学発光現象
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批准号:04750692
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1992
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负责人:作花 哲夫
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依托单位:
海外基金