分子刷り込み触媒による不斉反応の開発

使用分子印迹催化剂开发不对称反应

• 批准号: 11119231
• 负责人: 嶋田 豊司
• 金额: $ 0.96万
• 依托单位: Kyoto University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
• 财政年份: 1999
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1999 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-11119231/
• 关键词: 不斉転写; 鋳型; 軸不斉; メソポーラスシリカゲル; ビフェノール誘導体; ビナフチルジカルボン酸

我々はシリカゲル表面に単なる光学活性体を担持するという方法ではなく不斉有機分子を鋳型としてアキラルな不斉受容体に構造転写する新規な不斉場構築法を見出した.本研究では担持シリカゲルとして,均一な30Aの細孔を有する分子サイズ選択能のあるメソポーラスシリカゲル(FSM-16)を,また不斉受容体にはビフェノール誘導体5,5'-bis(allydimethylsilyl)-2,2'-biphenol1を用いた.1はフェニル基間の炭素-炭素結合が自由回転するため光学不活性な化合物である.しかし,光学活性な鋳型となるビナフチルジカルボン酸ジクロリド(R)-2と環状ジエステル3を形成させることにより1の立体配座を固定できる.こうして得た3をメソポーラスシリカゲル(FSM-16)とトルエン中,60時間還流すると3担持FSM-16(4)が得られた.4は,シリカゲルとの結合を持つため鋳型分子であるビナフチル部位を切り放してもビフェノール誘導体は光学活性体としてシリカゲル表面に残る.実際に,不斉転写に用いた鋳型分子(R)-1の切断除去のため水素化アルミニウムリチウムを用いて還元したところ,還元体である2,2'-ビス(ヒドロキシメチル)-1,1'-ビナフチルのみを収率よく回収した.(R)-1切断後のFSM-16(5)は^<13>CCP/MASNMRより2の構造は持たず1の骨格のみを有することが明らかとなった.またラセミ体のビナフトール吸着実験から不斉場をもつことも確認された.この新規の不斉場構築法は1のような潜在的軸不斉をキラルな鋳型分子を用いて発現させたもので,鋳型分子の回収再使用により効率的な不斉情報の伝達法として注目できる.

A new method for the construction of optically active materials is proposed. In this study, we investigated the molecular selectivity of the homogeneous 30A pore (FSM-16), and the use of the 5,5'-bis(allydimethylsilyl)-2,2'-biphenol1 as a receptor. Optically active, optically active, 3. To determine whether or not to bind to an optically active molecule (FSM-16) or to bind to an optically active molecule (FSM-16), the FSM-16(FSM-16) or to bind to an optically active molecule (FSM-16) or to bind to an optically active molecule (FSM-16). In practice, the use of (R)-1 to cut off and remove the water element from the molecule, the use of the element, the element is 2,2'-vist (R)-1,1'-vist. (R)-1 After cutting off FSM-16(5)<13>, the structure of CCP/MASNMR 2 is maintained. It's a very important part of the process. This new method of field construction is based on the potential axis of the molecule, and the potential axis of the molecule.