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超音速フリージェットによるシリコンカーバイド薄膜の形成に関する基礎的研究

超音速フリージェットによるシリコンカーバイド薄膜の形成に関する基礎的研究
超音速自由射流形成碳化硅薄膜的基础研究
批准号:
96J00720
负责人:
生駒 嘉史
金额:
$0.58万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
1998
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1998 至 --
关键词:

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高圧相変態が拓くシリコン―ゲルマニウム合金の結晶多型と新奇物性解明
  • 批准号:
    23K26405
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 资助金额:
    $3.91万
  • 财政年份:
    2024
  • 负责人:
    生駒 嘉史
  • 依托单位:
Elucidation of polymorphs and novel properties of SiGe alloys developed by high-pressure phase transformations
  • 批准号:
    23H01712
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 资助金额:
    $12.4万
  • 财政年份:
    2023
  • 负责人:
    生駒 嘉史
  • 依托单位:
超音速フリージェットCVD法によるSiC/Si多層量子構造の形成
  • 批准号:
    15760492
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 资助金额:
    $2.37万
  • 财政年份:
    2003
  • 负责人:
    生駒 嘉史
  • 依托单位:
超音速フリージェットによるSi/SiC共鳴トンネルダイオードの形成
  • 批准号:
    13750615
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 资助金额:
    $1.34万
  • 财政年份:
    2001
  • 负责人:
    生駒 嘉史
  • 依托单位: