超音速フリージェットによるシリコンカーバイド薄膜の形成に関する基礎的研究
超音速フリージェットによるシリコンカーバイド薄膜の形成に関する基礎的研究
批准号:
96J00720
负责人:
生駒 嘉史
金额:
$0.58万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
1998
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1998 至 --
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会议论文
高圧相変態が拓くシリコン―ゲルマニウム合金の結晶多型と新奇物性解明
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批准号:23K26405
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$3.91万
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财政年份:2024
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负责人:生駒 嘉史
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依托单位:
Elucidation of polymorphs and novel properties of SiGe alloys developed by high-pressure phase transformations
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批准号:23H01712
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$12.4万
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财政年份:2023
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负责人:生駒 嘉史
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依托单位:
超音速フリージェットCVD法によるSiC/Si多層量子構造の形成
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批准号:15760492
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$2.37万
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财政年份:2003
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负责人:生駒 嘉史
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依托单位:
超音速フリージェットによるSi/SiC共鳴トンネルダイオードの形成
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批准号:13750615
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2001
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负责人:生駒 嘉史
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依托单位: