液晶装荷型ファイバグレーティング光スイッチに関する研究

液晶负载光纤光栅光开关的研究

基本信息

  • 批准号:
    11875084
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.34万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 财政年份:
    1999
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1999 至 2000
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究は、光ファイバグレーティングと液晶を組み合わせ、電気的に制御可能な波長スイッチの実現を目指している。狭帯域な反射型波長フィルタである光ファイバグレーティングの側面を研磨して、その研磨面に電極を作りこんだ液晶を接合することにより、光ファイバグレーティングの反射波長をシフトさせることができる。光ファイバグレーティングの研磨に際して、一次被覆を除去した光ファイバグレーティングをガラス板に熱硬化型エポキシ接着剤で塗布・固定し、ガラス用研磨砥石を用いて研磨を行い、良好な研磨面が得られた。光ファイバグレーティングを研磨する際、光ファイバのコア部とクラッド研磨面との距離である最小クラッド厚が重要となるが、研磨面に露出しているファイバグレーティングの幅(研磨面の幅)を光学顕微鏡で測定することで最小クラッド厚を算出し、研磨面が光ファイバのコア部から10μm以内まで研磨されていることを確認した。また、研磨面が均一に削れているかどうかについても測定を行い、光ファイバグレーティング付近の研磨面のばらつきが数μm程度であることを確認した。最小クラッド厚が10μm程度になるまで研磨すると、反射波長が変化することが確認できた。研磨面を空気とした状態で研磨を進めると、反射スペクトルが最大で約4nm広がった。反射スペクトルが広がる理由として、研磨面の不均一性が原因と考えられる。ファイバグレーティングをスラブ導波路と見立て、簡単な等価屈折率の計算によると、最大16.4nmの波長シフトが実現できる可能性がある。今後、加工精度を向上させ研磨面の不均一性を改善することにより、反射スペクトルを広げずに、より大きな波長シフト量の実現を目指す。さらに液晶を電極付きガラス板ではさみ、電圧印加によって屈折率を変化させる予備実験を開始した。今後、これらの検討結果を総合して、光スイッチ実現に向けて準備する計画である。
This study aims at the realization of optical and electronic control of possible wavelengths in liquid crystal. Narrow band reflection wavelength light source light During polishing, the primary coating is removed. When polishing, the distance between the polished surface and the polished surface is determined by optical microscope, the minimum thickness of the polished surface is calculated, and the polished surface is determined within 10μm of the polished surface. The grinding surface is uniformly cut, and the grinding surface is uniformly cut. The measurement is carried out, and the light is detected. The grinding surface is close to the grinding surface, and the grinding surface is cut to a degree of several micrometers. The minimum thickness is about 10μm, and the reflection wavelength is changed. The polishing surface has a maximum of about 4nm. The reason for the reflection of the grinding surface is that the grinding surface is uneven. The calculation of refractive index of optical waveguide with wavelength of 16.4 nm is possible. In the future, the machining accuracy will be improved, and the heterogeneity of the grinding surface will be improved. The liquid crystal electrode plate has been prepared for the first time. In the future, the results of this review will be integrated into the preparation plan for the implementation of the project.

项目成果

期刊论文数量(1)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
石田知史: "側面研磨したファイバグレーティングの光学特性"Extended Abstract, OPTICS JAPAN. 169-170 (1999)
Satoshi Ishida:“侧面抛光光纤光栅的光学特性”扩展摘要,OPTICS JAPAN 169-170 (1999)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
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  • 通讯作者:
    三上 修
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
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  • 影响因子:
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  • 作者:
    Mizuno;Y.;Shibata;Y.;Ohtsu;M.;Ojika;M.;Sato;I.;Chiba;S.;Kawakita;K. and Takemoto;D.;森本 元(山階鳥研)・上野裕介(石川県立大)・三上 修(北海道教育大);今野沙弥香・近藤洋平・宮崎江里・小嶋博樹・水谷安希・柴田裕介・近藤竜彦・佐藤育男・千葉壮太郎・川北一人・竹本大吾;今野沙弥香・近藤洋平・柴田裕介・近藤竜彦・佐藤育男・千葉壮太郎・景山幸二・川北一人・竹本大吾;三上 修;Soriya Rin・Maurizio Camagna・佐藤育男・千葉壮太郎・川 北一人・竹本大吾;辰巳絢音・小鹿一・Maurizio Camagna・Mohammad Shahjahan Monjil・松田健太郎・加藤大明・寺内良平・佐藤育男・千葉壮太郎・川北一人・竹本大吾
  • 通讯作者:
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    2021
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  • 影响因子:
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  • 作者:
    廣部 博之;藤岡 健人;三上 修
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  • 批准号:
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  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 1.34万
  • 项目类别:
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  • 资助金额:
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知道了